公布日：2022.06.03
申請日：2022.03.11
分類號：C02F9/04(2006.01)I
摘要
本發(fā)明提供了一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，包括有以下步驟：在反應(yīng)池中投放三氯化鐵、液堿以及聚丙，調(diào)節(jié)PH7.8‑8.5經(jīng)過反應(yīng)池進(jìn)行反應(yīng)、攪拌、絮凝；將反應(yīng)池的溶液進(jìn)行攪拌；將攪拌后的反應(yīng)液放入沉淀池進(jìn)行沉淀；將反應(yīng)液進(jìn)入過濾池進(jìn)行過濾。通過本申請的方法相同量的三氯化鐵與傳統(tǒng)的氯化鎂去除高鹽印染廢水中的二氧化硅基本一致，但是市場上三氯化鐵單價遠(yuǎn)低于氯化鎂的價格，且在實驗的過程中使用氯化鎂需要將PH調(diào)節(jié)得更高，即液堿的使用量較多，成本高，而本申請的方式相對氯化鎂不需要將PH調(diào)節(jié)得較高，液堿的使用量較少，并且處理后的硬度更低，處理效果較好，可有效的降低企業(yè)處理的成本。
權(quán)利要求書
1.一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：包括有以下步驟：S1、在反應(yīng)池中投放三氯化鐵、液堿以及聚丙，調(diào)節(jié)PH7.8-8.5經(jīng)過反應(yīng)池進(jìn)行反應(yīng)、攪拌、絮凝；S2、將反應(yīng)池的溶液進(jìn)行攪拌；S3、將攪拌后的反應(yīng)液放入沉淀池進(jìn)行沉淀；S4、將反應(yīng)液進(jìn)入過濾池進(jìn)行過濾。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：在步驟S1中，所述三氯化鐵的濃度為33％,2000PPM，所述液堿的濃度為32％,1000PPM，所述聚丙的濃度為0.32‰,2000PPM。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：所述步驟S2中，對高鹽印染廢水進(jìn)行攪拌的攪拌時間為1分鐘。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：所述步驟S3中，反應(yīng)液放入斜管池進(jìn)行沉淀時間為10分鐘。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：在步驟S1中，所述的反應(yīng)池中設(shè)置有攪拌裝置，所述攪拌裝置用于攪拌混合藥劑以及廢水。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：將S3反應(yīng)液放入斜管池以及將S4中反應(yīng)液放入斜管池，均分別通過加壓泵以及管道進(jìn)行傳輸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：所述步驟S3中，所述沉淀池為斜管沉淀池。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，其特征在于：所述步驟S4中，所述過濾池為砂濾池。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足提供了一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，本發(fā)明的具體技術(shù)方案如下：
一種高鹽印染廢水去除二氧化硅的方法，包括有以下步驟：
S1、在反應(yīng)池中投放三氯化鐵、液堿以及聚丙，調(diào)節(jié)PH7.8-8.5經(jīng)過反應(yīng)池進(jìn)行反應(yīng)、攪拌、絮凝；
S2、將反應(yīng)池的溶液進(jìn)行攪拌；
S3、將攪拌后的反應(yīng)液放入沉淀池進(jìn)行沉淀；
S4、將反應(yīng)液進(jìn)入過濾池進(jìn)行過濾。
優(yōu)選的，在步驟S1中，所述三氯化鐵的濃度為33％,2000PPM，所述液堿的濃度為32％,1000PPM，所述聚丙的濃度為0.32‰,2000PPM。
優(yōu)選的，所述步驟S2中，對高鹽印染廢水進(jìn)行攪拌的攪拌時間為1分鐘。
優(yōu)選的，所述步驟S3中，反應(yīng)液放入斜管池進(jìn)行沉淀時間為10分鐘。
優(yōu)選的，在步驟S1中，所述的反應(yīng)池中設(shè)置有攪拌裝置，所述攪拌裝置用于攪拌混合藥劑以及廢水。
優(yōu)選的，將S3反應(yīng)液放入斜管池以及將S4中反應(yīng)液放入斜管池，均分別通過加壓泵以及管道進(jìn)行傳輸。
優(yōu)選的，所述步驟S3中，所述沉淀池為斜管沉淀池。
優(yōu)選的，所述步驟S4中，所述過濾池為砂濾池。
本發(fā)明所取得的有益技術(shù)效果包括：
將反應(yīng)池中的高鹽高硅印染廢水(氯化鈉溶液，水質(zhì)指標(biāo)：TDS約20000-25000mg/L、SiO2約80mg/L、PH約8.3)的溶液加入反應(yīng)池中投放三氯化鐵、液堿以及聚丙，調(diào)節(jié)PH7.8-8.5經(jīng)過反應(yīng)池進(jìn)行反應(yīng)；經(jīng)過反應(yīng)、攪拌后產(chǎn)生絮凝、將攪拌后的反應(yīng)液放入斜管池進(jìn)行沉淀、將反應(yīng)液進(jìn)行過濾后，反應(yīng)池中的高鹽高硅印染廢水中的SiO2含量能控制在21.9-41.4mg/L；同時，硬度不會明顯升高，水中鐵離子等重金屬含量不會明顯升高；同時去除相同的高鹽印染廢水中的二氧化硅，本申請相同量的三氯化鐵與傳統(tǒng)的氯化鎂去除高鹽印染廢水中的二氧化硅基本一致，但是市場上三氯化鐵單價遠(yuǎn)低于氯化鎂的價格，且在實驗的過程中使用氯化鎂需要將PH調(diào)節(jié)得更高，即液堿的使用量較多，成本高，而本申請的方式相對氯化鎂不需要將PH調(diào)節(jié)得較高，液堿的使用量較少，并且處理后的硬度更低，處理效果較好，可有效的降低企業(yè)處理的成本,此方法是一種安全、穩(wěn)定、高效、低成本的除硅方法。
（發(fā)明人：姚穎;梁躍施;張良軍;區(qū)增輝;錢原鉻;孔柱文;林云燁）
