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高新電鍍廢水處理系統(tǒng)

發(fā)布時(shí)間:2023-10-28 8:18:59  中國(guó)污水處理工程網(wǎng)

公布日:2022.05.06

申請(qǐng)日:2021.12.31

分類號(hào):C02F1/52(2006.01)I;C02F103/16(2006.01)N

摘要

本發(fā)明涉及電鍍廢水處理技術(shù)領(lǐng)域,且公開了一種用于電鍍廢水的處理裝置,解決了目前市場(chǎng)上用于處理電鍍廢水的裝置在使用的時(shí)候,不能對(duì)廢水進(jìn)行攪拌,使得廢水無法與拖入的藥劑充分發(fā)生發(fā)應(yīng),以及不方便將沉淀在沉淀池內(nèi)的金屬沉淀物取出來的問題,其包括沉淀池,沉淀池內(nèi)腔的頂部固定安裝有支撐架,支撐架為十字形狀,且支撐架的四端均固定連接在沉淀池內(nèi)壁的頂端,在支撐架縱橫的交叉處設(shè)置為圓板狀,且在支撐架圓板處的中間位置卡死和有第三通孔,支撐架圓板處的頂部固定安裝有液壓缸,本發(fā)明,通過電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)部上的攪拌葉在沉淀池內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng),使投入的藥劑能夠充分與電鍍廢水發(fā)生反應(yīng),而且還方便將金屬的沉淀物從沉淀池內(nèi)取出來。

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權(quán)利要求書

1.一種用于電鍍廢水的處理裝置,包括沉淀池(1),其特征在于:所述沉淀池(1)內(nèi)腔的頂部固定安裝有支撐架(2),所述支撐架(2)為十字形狀,且支撐架(2)的四端均固定連接在沉淀池(1)內(nèi)壁的頂端,在支撐架(2)縱橫的交叉處設(shè)置為圓板狀,且在支撐架(2)圓板處的中間位置卡死和有第三通孔(20),所述支撐架(2)圓板處的頂部固定安裝有液壓缸(3),且液壓缸(3)的伸縮端貫穿第三通孔(20)并延伸至沉淀池(1)的內(nèi)腔中,所述沉淀池(1)的內(nèi)腔中設(shè)置有固定部(12),且在固定部(12)頂部的中間位置開設(shè)有第四通孔(21),所述液壓缸(3)位于沉淀池(1)內(nèi)腔中的伸縮端還貫穿固定部(12)上的第四通孔(21)并延伸至固定部(12)的底部,且在液壓缸(3)伸縮端的頂端固定安裝有擠壓板(17),所述擠壓板(17)位于固定部(12)的下方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置,其特征在于:所述固定部(12)兩側(cè)的頂部和底部均固定連接有固定桿(13),且四個(gè)固定桿(13)遠(yuǎn)離固定部(12)的一端均固定連接在沉淀池(1)的內(nèi)壁上,所述固定部(12)的側(cè)壁上開設(shè)有環(huán)形槽(22),且在環(huán)形槽(22)處套接有轉(zhuǎn)動(dòng)部(14),所述轉(zhuǎn)動(dòng)部(14)能夠在固定部(12)側(cè)壁上的環(huán)形槽(22)內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng),且在轉(zhuǎn)動(dòng)部(14)的兩側(cè)均固定安裝有攪拌葉(15)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置,其特征在于:所述轉(zhuǎn)動(dòng)部(14)側(cè)壁的頂部開設(shè)有齒槽(23),其中一個(gè)所述固定桿(13)靠近固定部(12)的一端上開設(shè)有第一通孔(18),所述支撐架(2)上開設(shè)有第二通孔(19),且第一通孔(18)與第二通孔(19)上下對(duì)齊,所述第一通孔(18)和第二通孔(19)的內(nèi)部插接有從動(dòng)桿(4),且從動(dòng)桿(4)的頂端貫穿第二通孔(19)并延伸至支撐架(2)的頂部,從動(dòng)桿(4)的底端貫穿第一通孔(18)并延伸至固定桿(13)的底部,且在從動(dòng)桿(4)的底端上固定安裝有齒輪(16),所述齒輪(16)的側(cè)壁與轉(zhuǎn)動(dòng)部(14)上齒槽(23)嚙合連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置,其特征在于:所述第二通孔(19)設(shè)置為圓球狀,所述從動(dòng)桿(4)上設(shè)置有圓球,且從動(dòng)桿(4)上的圓球位于第二通孔(19)內(nèi)并能夠在其內(nèi)部進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng),所述從動(dòng)桿(4)的頂端固定安裝有傳動(dòng)帶(5),所述沉淀池(1)的側(cè)壁上固定安裝有電機(jī)(6),且傳動(dòng)帶(5)遠(yuǎn)離從動(dòng)桿(4)的一端固定連接在電機(jī)(6)的輸出端上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置,其特征在于:所述齒輪(16)底部的水平高度高于兩個(gè)所述攪拌葉(15)最高點(diǎn)的水平高度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置,其特征在于:所述沉淀池(1)內(nèi)腔的底部設(shè)置有坡度,且在沉淀池(1)內(nèi)腔底部的中間位置固定固定連接有有沉淀部(8),所述沉淀部(8)頂部的中間開設(shè)有凹槽(9),且凹槽(9)與沉淀池(1)的內(nèi)腔相連通,所述沉淀部(8)的底端延伸至沉淀池(1)的底部,且在沉淀部(8)的底端上螺紋連接有封蓋(11)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置,其特征在于:所述凹槽(9)底部的中間位置開設(shè)有出料口(10),且出料口(10)的直徑小于凹槽(9)的直徑,所述擠壓板(17)的直徑小于凹槽(9)的直徑且大于出料口(10)的直徑。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置,其特征在于:所述沉淀池(1)的底部均勻且固定安裝有四個(gè)支撐腿(7)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置,其特征在于:所述擠壓板(17)的底部固定安裝有密封墊。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)上述情況,為克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,本發(fā)明提供一種用于電鍍廢水的處理裝置,有效的解決了目前市場(chǎng)上用于處理電鍍廢水的裝置在使用的時(shí)候,不能對(duì)廢水進(jìn)行攪拌,使得廢水無法與拖入的藥劑充分發(fā)生發(fā)應(yīng),以及不方便將沉淀在沉淀池內(nèi)的金屬沉淀物取出來的問題。

為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種用于電鍍廢水的處理裝置,包括沉淀池,所述沉淀池內(nèi)腔的頂部固定安裝有支撐架,所述支撐架為十字形狀,且支撐架的四端均固定連接在沉淀池內(nèi)壁的頂端,在支撐架縱橫的交叉處設(shè)置為圓板狀,且在支撐架圓板處的中間位置卡死和有第三通孔,所述支撐架圓板處的頂部固定安裝有液壓缸,且液壓缸的伸縮端貫穿第三通孔并延伸至沉淀池的內(nèi)腔中,所述沉淀池的內(nèi)腔中設(shè)置有固定部,且在固定部頂部的中間位置開設(shè)有第四通孔,所述液壓缸位于沉淀池內(nèi)腔中的伸縮端還貫穿固定部上的第四通孔并延伸至固定部的底部,且在液壓缸伸縮端的頂端固定安裝有擠壓板,所述擠壓板位于固定部的下方。

進(jìn)一步的,所述固定部?jī)蓚?cè)的頂部和底部均固定連接有固定桿,且四個(gè)固定桿遠(yuǎn)離固定部的一端均固定連接在沉淀池的內(nèi)壁上,所述固定部的側(cè)壁上開設(shè)有環(huán)形槽,且在環(huán)形槽處套接有轉(zhuǎn)動(dòng)部,所述轉(zhuǎn)動(dòng)部能夠在固定部側(cè)壁上的環(huán)形槽內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng),且在轉(zhuǎn)動(dòng)部的兩側(cè)均固定安裝有攪拌葉。

進(jìn)一步的,所述轉(zhuǎn)動(dòng)部側(cè)壁的頂部開設(shè)有齒槽,其中一個(gè)所述固定桿靠近固定部的一端上開設(shè)有第一通孔,所述支撐架上開設(shè)有第二通孔,且第一通孔與第二通孔上下對(duì)齊,所述第一通孔和第二通孔的內(nèi)部插接有從動(dòng)桿,且從動(dòng)桿的頂端貫穿第二通孔并延伸至支撐架的頂部,從動(dòng)桿的底端貫穿第一通孔并延伸至固定桿的底部,且在從動(dòng)桿的底端上固定安裝有齒輪,所述齒輪的側(cè)壁與轉(zhuǎn)動(dòng)部上齒槽嚙合連接。

進(jìn)一步的,所述第二通孔設(shè)置為圓球狀,所述從動(dòng)桿上設(shè)置有圓球,且從動(dòng)桿上的圓球位于第二通孔內(nèi)并能夠在其內(nèi)部進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng),所述從動(dòng)桿的頂端固定安裝有傳動(dòng)帶,所述沉淀池的側(cè)壁上固定安裝有電機(jī),且傳動(dòng)帶遠(yuǎn)離從動(dòng)桿的一端固定連接在電機(jī)的輸出端上。

進(jìn)一步的,所述齒輪底部的水平高度高于兩個(gè)所述攪拌葉最高點(diǎn)的水平高度。

進(jìn)一步的,所述沉淀池內(nèi)腔的底部設(shè)置有坡度,且在沉淀池內(nèi)腔底部的中間位置固定固定連接有有沉淀部,所述沉淀部頂部的中間開設(shè)有凹槽,且凹槽與沉淀池的內(nèi)腔相連通,所述沉淀部的底端延伸至沉淀池的底部,且在沉淀部的底端上螺紋連接有封蓋。

進(jìn)一步的,所述凹槽底部的中間位置開設(shè)有出料口,且出料口的直徑小于凹槽的直徑,所述擠壓板的直徑小于凹槽的直徑且大于出料口的直徑。

進(jìn)一步的,所述沉淀池的底部均勻且固定安裝有四個(gè)支撐腿。

進(jìn)一步的,所述擠壓板的底部固定安裝有密封墊。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是:

1)、在使用裝置的時(shí)候,通過運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)使帶動(dòng)傳動(dòng)帶轉(zhuǎn)動(dòng),然后傳動(dòng)帶會(huì)帶動(dòng)從動(dòng)桿在第一通孔與第二通孔內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng),使從動(dòng)桿帶動(dòng)其底端的齒輪轉(zhuǎn)動(dòng),再然后齒輪與轉(zhuǎn)動(dòng)部上的齒槽嚙合連接,使得轉(zhuǎn)動(dòng)部在固定部上的環(huán)形槽內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng),轉(zhuǎn)動(dòng)部在轉(zhuǎn)動(dòng)的時(shí)候帶動(dòng)兩個(gè)攪拌葉在沉淀池會(huì)旋轉(zhuǎn),便可以將拖入沉淀池內(nèi)的藥劑與電鍍廢水充分發(fā)生發(fā)應(yīng),這樣就能夠?qū)㈦婂儚U水中的金屬雜質(zhì)發(fā)生沉淀,最后金屬的沉淀物就會(huì)順著沉淀池內(nèi)腔底部的坡面滑動(dòng),最后匯聚在沉淀部上的凹槽與出料口內(nèi),通過攪拌葉的攪拌能夠使電鍍廢水中的金屬雜質(zhì)充分發(fā)生發(fā)應(yīng)并沉淀;

2)、在對(duì)沉淀池內(nèi)沉淀的金屬雜質(zhì)進(jìn)行處理的時(shí)候,通過控制液壓缸推動(dòng)擠壓板向下移動(dòng),液壓缸的伸縮端在第三通孔和第四通孔內(nèi)向下移動(dòng),然后擠壓板便會(huì)慢慢移動(dòng)到沉淀部上的凹槽內(nèi),擠壓板移動(dòng)到凹槽內(nèi)時(shí),會(huì)將凹槽內(nèi)的電鍍廢水從凹槽內(nèi)擠壓出來,這樣擠壓板會(huì)抵在凹槽的底部并將凹槽底部的出料口堵住,最后擰掉出料口底部的封蓋,這時(shí)匯聚在出料口內(nèi)的金屬沉淀物便會(huì)從沉淀部底部的出料口處排出來,而沉淀池內(nèi)的廢水因?yàn)閿D壓板的阻擋無法從出料口處流出來,這樣便可以將對(duì)金屬沉淀物從沉淀池內(nèi)取出來。

(發(fā)明人:匡優(yōu)新)

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