公布日：2022.06.03
申請日：2022.04.02
分類號：C02F9/06(2006.01)I;C02F101/20(2006.01)N;C02F101/10(2006.01)N;C02F103/16(2006.01)N
摘要
本發(fā)明公開了一種基于活性氯電解裝置的電鍍綜合廢水處理工藝及裝置，包括含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)、含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)及除鎳系統(tǒng)。所述含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)包括依次相連的調(diào)節(jié)池、活性氯電解裝置及絮凝沉淀池。所述含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)包括依次相連的調(diào)節(jié)池、氧化池及絮凝沉淀池。所述含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)和含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)產(chǎn)生的兩股廢液混合，進入所述除鎳系統(tǒng)進行沉淀除鎳。本發(fā)明可有效提高氧化破絡(luò)效果，可解決次氯酸鈉采購困難及儲存易失效的問題，可實現(xiàn)系統(tǒng)內(nèi)部資源的充分利用，減少廢棄物外排，具有處理效率高、能耗低、運行穩(wěn)定、產(chǎn)水達標(biāo)等優(yōu)點。
權(quán)利要求書
1.一種基于活性氯電解裝置的電鍍綜合廢水處理裝置，其特征在于：包括含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)，含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)及除鎳系統(tǒng)，所述含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)包括依次相連的第一調(diào)節(jié)池，活性氯電解裝置及第一絮凝沉淀池，所述含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)包括依次相連的第二調(diào)節(jié)池、氧化池及第二絮凝沉淀池，所述含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)和含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)產(chǎn)生的兩股廢液混合進入所述除鎳系統(tǒng)進行沉淀除鎳。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于活性氯電解裝置的電鍍綜合廢水處理裝置，其特征在于：所述活性氯電解裝置由陰極板、陽極板、離子交換膜、陰極槽及陽極槽組成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基于活性氯電解裝置的電鍍綜合廢水處理裝置，其特征在于：所述離子交換膜屬于耐堿的陰離子交換膜，所述陽極板材質(zhì)為鈦涂貴金屬材質(zhì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于活性氯電解裝置的電鍍綜合廢水處理裝置，其特征在于：所述除鎳系統(tǒng)中固定設(shè)有除鎳劑。
5.一種基于活性氯電解裝置的電鍍綜合廢水處理工藝，其特征在于，所述含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)的具體步驟如下：(a)將含氰電鍍廢水進入第一調(diào)節(jié)池調(diào)節(jié)pH；(b)所述第一調(diào)節(jié)池產(chǎn)水進入活性氯電解裝置進行破絡(luò)反應(yīng)，具體反映為：所述第一調(diào)節(jié)池產(chǎn)水進入陽極槽，進行破絡(luò)反應(yīng)，將氰化物降解成二氧化碳和簡單無機化合物，得到破絡(luò)廢水；所述陰極槽內(nèi)投入氯化鈉電解液，經(jīng)電解反應(yīng)后生成NaCl和NaOH混合溶液排出；(c)所述破絡(luò)廢水進入第一絮凝沉淀池，投加氫氧化鈣、絮凝劑或混凝劑，絮凝沉淀后污泥外運作為固廢處理；(d)所述絮凝沉淀產(chǎn)水進入除鎳沉淀系統(tǒng)。所述含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)的具體操作步驟如下：(a)將含鎳電鍍廢水進入第二調(diào)節(jié)池，用硫酸調(diào)節(jié)廢液pH；(b)所述第二調(diào)節(jié)池產(chǎn)水進入氧化池，投加雙氧水和硫酸亞鐵進行氧化破絡(luò)，將鎳離子由絡(luò)合態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)橛坞x態(tài)；(c)所述氧化破絡(luò)產(chǎn)水進入第二絮凝沉淀池，加入所述含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)中活性氯電解裝置產(chǎn)生的陰極廢堿液調(diào)節(jié)pH，同時加入絮凝劑進行絮凝沉淀，污泥外運作為固廢處理；(d)所述絮凝沉淀產(chǎn)水進入除鎳沉淀系統(tǒng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種基于活性氯電解裝置的電鍍綜合廢水處理工藝，其特征在于：所述所述氯化鈉電解液中的氯離子在電場作用下經(jīng)陰離子交換膜進入陽極槽，在陽極板上產(chǎn)生活性氯，促進氰酸根離子的降解；所述活性氯電解裝置的電流密度設(shè)置為5～20A/m2，停留時間在0.5～2h。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種基于活性氯電解裝置的電鍍綜合廢水處理工藝，其特征在于：所述含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)的氧化池內(nèi)，投加硫酸亞鐵和雙氧水進行氧化破絡(luò)，所述硫酸亞鐵與鎳離子比例為0.5：1～2：1，所述硫酸亞鐵與雙氧水比例為1：1～1：5，所述氧化池內(nèi)停留時間為0.5～2h。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種基于活性氯電解裝置的電鍍綜合廢水處理裝置，其特征在于：所述除鎳沉淀系統(tǒng)中采用的除鎳藥劑可以是硫化鈉、多硫化鈉、二硫代甲酸鹽(DTC)類化合物、三巰基三嗪鹽(TMT)類化合物或者三硫代碳酸鹽(STC)類化合物中的任意一種或多種組合。
發(fā)明內(nèi)容
為克服上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本發(fā)明目的在于提供一種基于活性氯電解裝置的電鍍綜合廢水處理工藝及裝置。
為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取的技術(shù)方案為：
一種基于活性氯電解裝置的電鍍綜合廢水處理工藝及裝置，其特征在于：包括含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)，含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)及除鎳系統(tǒng)，所述含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)包括依次相連的第一調(diào)節(jié)池，活性氯電解裝置及第一絮凝沉淀池，所述含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)包括依次相連的第二調(diào)節(jié)池、氧化池及第二絮凝沉淀池，所述含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)和含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)產(chǎn)生的兩股廢液混合進入所述除鎳系統(tǒng)進行沉淀除鎳。
進一步的，所述活性氯電解裝置由陰極板、陽極板、離子交換膜、陰極槽及陽極槽組成。
進一步的，所述離子交換膜屬于耐堿的陰離子交換膜，所述陽極板材質(zhì)為鈦涂貴金屬材質(zhì)。
進一步的，所述除鎳系統(tǒng)中固定設(shè)有除鎳劑。
一種基于活性氯電解裝置的電鍍綜合廢水處理工藝，其特征在于，所述含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)的具體步驟如下：
(a)將含氰電鍍廢水進入第一調(diào)節(jié)池調(diào)節(jié)pH；
(b)所述第一調(diào)節(jié)池產(chǎn)水進入活性氯電解裝置進行破絡(luò)反應(yīng)，具體反映為：所述第一調(diào)節(jié)池產(chǎn)水進入陽極槽，進行破絡(luò)反應(yīng)，將氰化物降解成二氧化碳和簡單無機化合物，得到破絡(luò)廢水；所述陰極槽內(nèi)投入氯化鈉電解液，經(jīng)電解反應(yīng)后生成NaCl和NaOH混合溶液排出；
(c)所述破絡(luò)廢水進入第一絮凝沉淀池，投加氫氧化鈣、絮凝劑或混凝劑，絮凝沉淀后污泥外運作為固廢處理；
(d)所述絮凝沉淀產(chǎn)水進入除鎳沉淀系統(tǒng)。
所述含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)的具體操作步驟如下：
(a)將含鎳電鍍廢水進入第二調(diào)節(jié)池，用硫酸調(diào)節(jié)廢液pH；
(b)所述第二調(diào)節(jié)池產(chǎn)水進入氧化池，投加雙氧水和硫酸亞鐵進行氧化破絡(luò)，將鎳離子由絡(luò)合態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)橛坞x態(tài)；
(c)所述氧化破絡(luò)產(chǎn)水進入第二絮凝沉淀池，加入所述含氰電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)中活性氯電解裝置產(chǎn)生的陰極廢堿液調(diào)節(jié)pH，同時加入絮凝劑進行絮凝沉淀，污泥外運作為固廢處理；
(d)所述絮凝沉淀產(chǎn)水進入除鎳沉淀系統(tǒng)，該。
進一步的，所述所述氯化鈉電解液中的氯離子在電場作用下經(jīng)陰離子交換膜進入陽極槽，在陽極板上產(chǎn)生活性氯，促進氰酸根離子的降解；所述活性氯電解裝置的電流密度設(shè)置為5～20A/m2，停留時間在0.5～2h。
進一步的，所述含鎳電鍍廢水破絡(luò)系統(tǒng)的氧化池內(nèi)，投加硫酸亞鐵和雙氧水進行氧化破絡(luò)，所述硫酸亞鐵與鎳離子比例為0.5：1～2：1，所述硫酸亞鐵與雙氧水比例為1：1～1：5，所述氧化池內(nèi)停留時間為0.5～2h。
進一步的，所述除鎳沉淀系統(tǒng)中采用的除鎳藥劑可以是硫化鈉、多硫化鈉、二硫代甲酸鹽(DTC)類化合物、三巰基三嗪鹽(TMT)類化合物或者三硫代碳酸鹽(STC)類化合物中的任意一種或多種組合。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果為：
(1)本方案針對不同類型的電鍍廢水特點采用不同的氧化工藝，可有效提高氧化破絡(luò)效果，產(chǎn)水鎳離子達到＜0.3mg/L的排放標(biāo)準(zhǔn)；
(2)采用活性氯電解裝置對含氰廢水進行預(yù)處理，可解決次氯酸鈉采購困難及儲存易失效的問題；
(3)將活性氯電解裝置產(chǎn)生的氫氧化鈉廢液用于氧化產(chǎn)水調(diào)堿工段，可實現(xiàn)系統(tǒng)內(nèi)部資源的充分利用，減少廢棄物外排；
(4)整個系統(tǒng)具有處理效率高、能耗低、運行穩(wěn)定、產(chǎn)水達標(biāo)等優(yōu)點。
（發(fā)明人：李麗;孫端磊;張建海;金艷;黃伙;呂文玉;王彬）
