申請日2014.01.20

　　公開(公告)日2014.06.18

　　IPC分類號B01D21/02

　　摘要

　　本實用新型公開了一種煉油污水絮凝沉淀裝置，包括殼體，所述殼體內(nèi)設(shè)有混凝區(qū)，所述混凝區(qū)串聯(lián)有沉淀區(qū)，所述混凝區(qū)設(shè)有進水口，所述沉淀區(qū)設(shè)有出水口;所述沉淀區(qū)底部設(shè)有多個內(nèi)凹的污泥槽，所述污泥槽內(nèi)設(shè)有排泥管;所述沉淀區(qū)上部設(shè)有阻流板，阻流板上部設(shè)有斜板，斜板上部設(shè)有遮光裝置。本實用新型通過在沉淀區(qū)設(shè)置遮光裝置，有效抑制了水池沉淀區(qū)內(nèi)藻類滋生，杜絕了藻類對后續(xù)系統(tǒng)的影響;延長了水池清理周期，降低了裝置運行成本;不需添加二氧化氯滅藻劑，不僅節(jié)省了藥劑費用，還有效杜絕了該氣體帶來的安全隱患，同時避免了余氯對后續(xù)系統(tǒng)反滲透膜的影響。本實用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計簡單，投資成本小，安全環(huán)保，便于廣泛推廣應用。

　　權(quán)利要求書

　　1.煉油污水絮凝沉淀裝置，包括殼體，所述殼體內(nèi)設(shè)有混凝區(qū)，所述混凝區(qū)串聯(lián)有沉淀區(qū)，所述混凝區(qū)設(shè)有進水口，所述沉淀區(qū)設(shè)有出水口，其特征在于：所述沉淀區(qū)底部設(shè)有多個內(nèi)凹的污泥槽，所述污泥槽內(nèi)設(shè)有排泥管;所述沉淀區(qū)上部設(shè)有阻流板，所述阻流板上部設(shè)有斜板，所述斜板上部設(shè)有遮光裝置。

　　2.如權(quán)利要求1所述的煉油污水絮凝沉淀裝置，其特征在于：所述遮光裝置包括遮光板和固定設(shè)于所述殼體上的導軌，所述遮光板底部設(shè)有與所述導軌配合的滑輪。

　　3.如權(quán)利要求1所述的煉油污水絮凝沉淀裝置，其特征在于：所述遮光裝置包括固定設(shè)于所述殼體上并圍成一體的側(cè)遮光板，所述側(cè)遮光板上部固定設(shè)有頂遮光板，所述側(cè)遮光板上設(shè)有門。

　　4.如權(quán)利要求1、2或3所述的煉油污水絮凝沉淀裝置，其特征在于：所述出水口處設(shè)有用于檢測水中余氯含量的余氯儀。

　　說明書

　　煉油污水絮凝沉淀裝置

　　技術(shù)領(lǐng)域

　　本實用新型涉及環(huán)保技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種煉油污水絮凝沉淀裝置。

　　背景技術(shù)

　　煉油污水深度處理裝置中，絮凝沉淀池為超濾反滲透單元的前段處理部分，現(xiàn)有裝置均為露天設(shè)施，目前存在以下問題：(1)由于絮凝沉淀池內(nèi)水質(zhì)較好，溫度適宜，陽光充足，沉淀池內(nèi)斜板上極易滋生藻類物質(zhì)，藻類大量生長、死亡后會隨水流進入后續(xù)的超濾反滲透系統(tǒng)，容易造成超濾膜堵塞，出水水質(zhì)變差;(2)由于藻類生長速度快，清理沉淀池后短時間內(nèi)(約兩周)斜板上藻類便會重新布滿，造成絮凝沉淀池清池頻繁(約兩次/月)，增加了生產(chǎn)運行成本;(3)沉淀池中藻類通常采用二氧化氯進行殺滅，但運行中發(fā)現(xiàn)，該方法對殺滅藻類效果不明顯，并且二氧化氯為劇毒性氣體，容易在管道內(nèi)形成結(jié)晶堵塞管道，造成該氣體泄漏，使用期間存在重大安全隱患;同時，二氧化氯在水中生成的余氯具有強氧化性，易與反滲透膜發(fā)生反應，造成反滲透膜不可逆的破壞;(4)絮凝沉淀后污水中余氯在進入超濾反滲透單元前，通過投加還原劑消除，但在實際運行中發(fā)現(xiàn)，還原劑很難完全消除余氯，且易對反滲透單元形成還原劑污染。

　　發(fā)明內(nèi)容

　　本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種能夠抑制水池內(nèi)藻類生長，有效延長水池清理周期，提高反滲透膜使用壽命，節(jié)約運行成本，安全環(huán)保的煉油污水絮凝沉淀裝置。

　　為解決上述技術(shù)問題，本實用新型的技術(shù)方案是：煉油污水絮凝沉淀裝置，包括殼體，所述殼體內(nèi)設(shè)有混凝區(qū)，所述混凝區(qū)串聯(lián)有沉淀區(qū)，所述混凝區(qū)設(shè)有進水口，所述沉淀區(qū)設(shè)有出水口;所述沉淀區(qū)底部設(shè)有多個內(nèi)凹的污泥槽，所述污泥槽內(nèi)設(shè)有排泥管;所述沉淀區(qū)上部設(shè)有阻流板，所述阻流板上部設(shè)有斜板，所述斜板上部設(shè)有遮光裝置。

　　作為優(yōu)選的技術(shù)方案，所述遮光裝置包括遮光板和固定設(shè)于所述殼體上的導軌，所述遮光板底部設(shè)有與所述導軌配合的滑輪。

　　作為優(yōu)選的技術(shù)方案，所述遮光裝置包括固定設(shè)于所述殼體上并圍成一體的側(cè)遮光板，所述側(cè)遮光板上部固定設(shè)有頂遮光板，所述側(cè)遮光板上設(shè)有門。

　　作為對上述技術(shù)方案的改進，所述出水口處設(shè)有用于檢測水中余氯含量的余氯儀，所述余氯儀可以在線連續(xù)檢測水中余氯含量，可以選用本領(lǐng)域中公知常用的余氯儀。

　　本實用新型由于采用上述技術(shù)方案，具有以下有益效果：

　　(1)通過在所述沉淀區(qū)設(shè)置遮光裝置，避免陽光直射，有效抑制了水池沉淀區(qū)內(nèi)藻類滋生，杜絕了藻類對后續(xù)系統(tǒng)的影響;

　　(2)水池清理頻次減少，由之前的每月兩次減少到三個月一次，延長了清理周期，降低了裝置運行成本;

　　(3)停加二氧化氯滅藻劑，不僅節(jié)省了藥劑費用，還有效杜絕了該有毒氣體帶來的安全隱患，同時避免了余氯對后續(xù)系統(tǒng)反滲透膜的影響;

　　(4)停加還原劑，有效杜絕了還原劑對反滲透膜的污染，并通過設(shè)置所述余氯儀，及時對水中的余氯進行測量，超標時及時處理，避免對后續(xù)系統(tǒng)反滲透膜造成嚴重破壞。

　　本實用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計簡單，投資成本小，安全環(huán)保，便于廣泛推廣應用。