申請日2015.09.11
公開(公告)日2016.01.20
IPC分類號C02F9/06
摘要
本實用新型涉及一種電化學(xué)水處理常壓過濾除垢系統(tǒng),包括兩大部分,即電化學(xué)水處理裝置1和常壓過濾除垢裝置2,其中電化學(xué)水處理裝置1包括進(jìn)水通道4、電化學(xué)反應(yīng)室6、溢流通道7,常壓過濾除垢裝置2包括過濾通道10、濾芯濾網(wǎng)11、沉淀室12、水垢排出口13、出水通道14及頂部溢流通道15。待處理的水通過進(jìn)水口3進(jìn)入裝置的進(jìn)水通道4,在通過電化學(xué)反應(yīng)室6發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)后由溢流通道7溢出進(jìn)入過濾通道10,電化學(xué)處理過的水經(jīng)過濾芯濾網(wǎng)11過濾后由出水通道14排出,析出的水垢則進(jìn)入沉淀室12由水垢排出口13定時排出。本實用新型將電化學(xué)水處理裝置與過濾除垢裝置分離開來,既解決了電化學(xué)水處理裝置的過濾除垢問題,也有利于日常的清洗更換等操作。
摘要附圖
權(quán)利要求書
1.一種電化學(xué)水處理常壓過濾除垢系統(tǒng),包括電化學(xué)水處理裝置(1)和常壓過濾除垢裝置(2),其特征在于,電化學(xué)水處理裝置(1)與常壓過濾除垢裝置(2)相對獨立,兩者通過連接管(8)連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電化學(xué)水處理常壓過濾除垢系統(tǒng),其特征在于,所述電化學(xué)水處理裝置(1)包括進(jìn)水口(3)及進(jìn)水通道(4)、排污口(5)、電化學(xué)反應(yīng)室(6)、溢流通道(7),所述電化學(xué)反應(yīng)室(6)位于溢流通道(7)和進(jìn)水通道(4)之間,排污口(5)設(shè)于進(jìn)水通道(4)下部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電化學(xué)水處理常壓過濾除垢系統(tǒng),其特征在于,所述常壓過濾除垢裝置(2)包括入口(9)、過濾通道(10)、濾芯濾網(wǎng)(11)、沉淀室(12)、水垢排出口(13)、出水通道(14)及頂部溢流通道(15),所述濾芯濾網(wǎng)(11)為若干組,均勻布置在常壓過濾除垢裝置(2)內(nèi),所述頂部溢流通道(15)位于常壓過濾除垢裝置(2)的一側(cè),所述出水通道(14)與頂部溢流通道(15)是連通的,過濾通道(10)下部與沉淀室(12)連通,沉淀室(12)底部設(shè)有水垢排出口(13)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電化學(xué)水處理常壓過濾除垢系統(tǒng),其特征在于,所述常壓過濾除垢裝置(2)的頂部溢流通道(15)所處的水平面位置高于入口(9)的水平面位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電化學(xué)水處理常壓過濾除垢系統(tǒng),其特征在于,所述濾芯濾網(wǎng)(11)可拆卸地安裝在常壓過濾除垢裝置(2)內(nèi)。
說明書
一種電化學(xué)水處理常壓過濾除垢系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型屬于工業(yè)水處理技術(shù)領(lǐng)域,具體是涉及一種電化學(xué)水處理的過濾除垢系統(tǒng)。
背景技術(shù)
電化學(xué)水處理技術(shù)是一種近期越來越受到關(guān)注的水垢控制技術(shù),并且近期由于電源技術(shù)的進(jìn)步和電催化材料革新,已經(jīng)開發(fā)出了越來越多樣的電化學(xué)水處理裝置,但已經(jīng)投入實際應(yīng)用的電化學(xué)水處理裝置普遍存在結(jié)構(gòu)復(fù)雜、處理能力不足、除垢效率不高、在線除垢時無法使電化學(xué)水處理過程中產(chǎn)生的水垢及時沉淀等問題。
本實用新型專利專門針對電化學(xué)水處理的濾清問題提出了一種常壓過濾除垢系統(tǒng),將經(jīng)過電化學(xué)水處理設(shè)備處理后的水進(jìn)行過濾,將析出的水垢與水分離。
實用新型內(nèi)容
本實用新型針對電化學(xué)水處理的常壓過濾除垢提出了一套電化學(xué)水處理設(shè)備與過濾除垢設(shè)備相對獨立的系統(tǒng),便于設(shè)備的操作,濾芯的清洗更換操作。
本實用新型的主要內(nèi)容如下:
一種電化學(xué)水處理常壓過濾除垢系統(tǒng),包括兩大部分,即電化學(xué)水處理裝置1和常壓過濾除垢裝置2,電化學(xué)水處理裝置1與常壓過濾除垢裝置2相對獨立,兩者通過連接管8連接。
進(jìn)一步地,電化學(xué)水處理裝置包括進(jìn)水口3及進(jìn)水通道4、排污口5、電化學(xué)反應(yīng)室6、溢流通道7,電化學(xué)反應(yīng)室6位于溢流通道7和進(jìn)水通道4之間,排污口5設(shè)于進(jìn)水通道4下部。
進(jìn)一步地,所述常壓過濾除垢裝置2包括入口9、過濾通道10、濾芯濾網(wǎng)11、沉淀室12、水垢排出口13、出水通道14及頂部溢流通道15,所述濾芯濾網(wǎng)11為若干組,相互平行排列在常壓過濾除垢裝置2內(nèi),所述頂部溢流通道15位于常壓過濾除垢裝置2的一側(cè),所述出水通道14與頂部溢流通道15是連通的,過濾通道10下部與沉淀室12連通,沉淀室12底部設(shè)有水垢排出口13。
進(jìn)一步地,所述常壓過濾除垢裝置2的頂部溢流通道15所處的水平面位置高于入口9的水平面位置。
進(jìn)一步地,所述濾芯濾網(wǎng)11可拆卸地安裝在常壓過濾除垢裝置2內(nèi)。
與現(xiàn)有電化學(xué)水處理設(shè)備相比,本實用新型將電化學(xué)水處理裝置與過濾除垢裝置分離開來,既解決了電化學(xué)水處理裝置的過濾除垢問題,也有利于日常的清洗更換等操作。