公布日：2023.05.30
申請日：2023.02.23
分類號：C02F9/00(2023.01)I;C02F1/00(2023.01)N;C02F1/463(2023.01)N;C02F1/52(2023.01)N;C02F1/66(2023.01)N;C02F1/70(2023.01)N;C02F1/78(2023.01)N;C02F101
/22(2006.01)N;C02F101/20(2006.01)N
摘要
本發(fā)明公開了一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，包括除鉻反應罐、破氰反應罐、沉淀池，所述沉淀池通過管路與常規(guī)水處理系統(tǒng)連通，對廢水進行后續(xù)的常規(guī)污染物達標處理，所述排放管靠近除鉻反應罐的一端設置有過濾裝置，以用于對電子工業(yè)廢水中的沉淀物進行過濾，本發(fā)明具備過濾電子工業(yè)廢水中的沉淀物的能力并且能夠隨時拆卸清洗，在工業(yè)廢水重金屬去除處理后，將廢水通入常規(guī)污水處理系統(tǒng)進行常規(guī)污染物達標處理，防止未達標的尾水排放污染環(huán)境。
權利要求書
1.一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于，包括：除鉻反應罐，所述除鉻反應罐與電子工業(yè)廢水的排放管連通，以用于將含鉻廢水中的鉻離子還原去除；破氰反應罐，所述破氰反應罐與除鉻反應罐連通，以用于將廢水中氰化物進行去除；沉淀池，以用于對廢水進行沉淀處理；所述除鉻反應罐設置有廢氣回收裝置，防止除鉻反應生成的廢氣對環(huán)境造成二次污染，所述破氰反應罐還連通有臭氧發(fā)生裝置，利用臭氧對氰化物進行進一步氧化去除，所述沉淀池通過管路與常規(guī)水處理系統(tǒng)連通，對廢水進行后續(xù)的常規(guī)污染物達標處理，所述排放管靠近除鉻反應罐的一端設置有過濾裝置，以用于對電子工業(yè)廢水中的沉淀物進行過濾。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述除鉻反應罐還包括攪拌裝置、罐體加熱裝置、加藥裝置以及新風系統(tǒng)，所述新風系統(tǒng)包括新風風機以及新風風機與除鉻反應罐連通的風道，所述風道上設置有單向閥體裝置，以用于防止除鉻反應罐內的有害氣體從新風系統(tǒng)排出。
3.根據(jù)權利要求2所述的一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述過濾裝置包括通過緊固件固定連接在排放管上的錐形管路接頭一、錐形管路接頭二，設置在錐形管路接頭一和錐形管路接頭二之間的柱狀過濾網(wǎng)結構以及與錐形管路接頭一滑動連接的套管，所述排放管在過濾裝置對應安裝處設置有承接環(huán)，以用于安裝錐形管路接頭一和錐形管路接頭二，所述錐形管路接頭一和錐形管路接頭二均由安裝環(huán)和錐形管組成，兩個所述錐形管相對設置，所述柱狀過濾網(wǎng)結構包括筒型過濾網(wǎng)、設置在筒型過濾網(wǎng)兩端的過濾承接口以及若干沿筒形過濾網(wǎng)軸線方向平行且均勻分布的圓形過濾網(wǎng)，圓形過濾網(wǎng)與筒型過濾網(wǎng)固定連接，所述過濾承接口的豎直界面面積均與錐形管路接頭一和錐形管路接頭二的錐形管端面的面積相等，所述錐形管路接頭一和錐形管路接頭二的相對開口處均固設有與柱狀濾網(wǎng)兩端匹配的弧形彈性卡，以用于將柱狀濾網(wǎng)結構卡接在錐形管路接頭一和錐形管路接頭二上，所述過濾承接口的卡接處設置有與弧形彈性卡相匹配的環(huán)形凸起，所述錐形管路接頭一的安裝環(huán)外徑大于承接環(huán)的外徑且沿安裝環(huán)外圈內側開設有若干滑槽，以用于與套管滑動連接。
4.根據(jù)權利要求3所述的一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述套管靠近錐形管路接頭一的一端管壁端面上固設有密封環(huán)，密封環(huán)靠近承接環(huán)一側嵌入有密封圈，以用于與承接環(huán)配合防止廢水外泄，套管內壁上對應若干滑槽的位置固設有與滑槽匹配且數(shù)量對應的滑軌，所述滑軌均平行于套管軸線方向，所述套管遠離密封環(huán)的一端設置有鎖緊機構，所述鎖緊機構包括轉動連接在套管上的鎖緊桿、套舍在鎖緊桿上的壓縮彈簧、固設在鎖緊桿頭的限位凸起以及開設在排放管壁上與限位凸起匹配的限位凹槽。
5.根據(jù)權利要求4所述的一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述滑軌靠近鎖緊機構一端設置有限位環(huán)，以用于限定套管在安裝環(huán)上滑動的位置，所述套管上對應鎖緊桿的位置設置開設有凸起容納槽，所述壓縮彈簧一端緊抵凸起容納槽頂壁。
6.根據(jù)權利要求1所述的一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述沉淀池一側設置有中轉池，以用于將破氰處理后的廢水暫存在中轉池中，所述中轉池與沉淀池通過S型管路連通。
7.根據(jù)權利要求6所述的一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述中轉池側壁上固設有電極固定架，電極固定架架上固設有若干鐵金屬電極板，若干所述鐵金屬電極板沿豎直方向平均分布且相互平行，鐵金屬電極板通過導線與外部電源電連接。
8.根據(jù)權利要求1至7所述的一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述生產電子產品廢水處理系統(tǒng)處理廢水的步驟如下：步驟S1，將廢水通過過濾網(wǎng)，過濾去除廢水中的沉淀物；步驟S2，將步驟S1中過濾后的廢水排入除鉻反應罐中，通過加藥裝置加入鐵鹽，罐體內溫度在65℃～75℃，并與空氣充分攪拌，靜止浴溫30min，得到上清液；步驟S3，將步驟S2中得到的上清液排入破氰反應罐中，通過臭氧發(fā)生裝置生成的臭氧在破氰反應罐中進行曝氣處理，得到預處理的廢水；步驟S4，將步驟S3中得到的廢水在中轉池中流經(jīng)鐵金屬電極板，外部電源打開，鐵金屬電極板通電，對中轉池中的廢水進行電絮凝處理；步驟S5，將步驟S4中電絮凝處理后的廢水排入沉淀池中，調節(jié)PH值至6.2～6.7，加入硫化鈉，靜置1.5h；步驟S6，將步驟S5中沉淀池內沉淀處理后的廢水排入常規(guī)水處理系統(tǒng)連通，對廢水進行后續(xù)的常規(guī)污染物達標處理。
9.根據(jù)權利要求8所述的一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述除鉻反應罐底部連通有鉻金屬回收裝置，以用于對去除的含鉻沉淀物進行回收。
10.根據(jù)權利要求8所述的一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，其特征在于：所述的沉淀池底部通過管路連通有沉淀回收裝置，以用于對沉淀池中的沉淀物進行集中收集和處置。
發(fā)明內容
本發(fā)明提供了一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，具備過濾電子工業(yè)廢水中的沉淀物的能力并且能夠隨時拆卸清洗，在工業(yè)廢水重金屬去除處理后，將廢水通入常規(guī)污水處理系統(tǒng)進行常規(guī)污染物達標處理，防止未達標的尾水排放污染環(huán)境，解決了現(xiàn)有技術中的問題。
為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明是采用以下技術方案實現(xiàn)的：
一種生產電子產品廢水處理系統(tǒng)，包括：
除鉻反應罐，所述除鉻反應罐與電子工業(yè)廢水的排放管連通，以用于將含鉻廢水中的鉻離子還原去除；
破氰反應罐，所述破氰反應罐與除鉻反應罐連通，以用于將廢水中氰化物進行去除；
沉淀池，以用于對廢水進行沉淀處理；
所述除鉻反應罐設置有廢氣回收裝置，防止除鉻反應生成的廢氣對環(huán)境造成二次污染，所述破氰反應罐還連通有臭氧發(fā)生裝置，利用臭氧對氰化物進行進一步氧化去除，所述沉淀池通過管路與常規(guī)水處理系統(tǒng)連通，對廢水進行后續(xù)的常規(guī)污染物達標處理，所述排放管靠近除鉻反應罐的一端設置有過濾裝置，以用于對電子工業(yè)廢水中的沉淀物進行過濾。
本發(fā)明的有益效果如下：本發(fā)明通過在電子工業(yè)廢水排放管上設置過濾裝置，首先對待處理的工業(yè)電子工業(yè)廢水中的沉淀物進行過濾，然后再進行除鉻、破氰的重金屬污染物的處理，最后將處理后的工業(yè)廢水引入常規(guī)水處理系統(tǒng)進行后續(xù)的常規(guī)污染物達標處理。
進一步地，所述除鉻反應罐還包括攪拌裝置、罐體加熱裝置、加藥裝置以及新風系統(tǒng)，所述新風系統(tǒng)包括新風風機以及新風風機與除鉻反應罐連通的風道，所述風道上設置有單向閥體裝置，以用于防止除鉻反應罐內的有害氣體從新風系統(tǒng)排出。
進一步地，所述過濾裝置包括通過緊固件固定連接在排放管上的錐形管路接頭一、錐形管路接頭二，設置在錐形管路接頭一和錐形管路接頭二之間的柱狀過濾網(wǎng)結構以及與錐形管路接頭一滑動連接的套管，所述排放管在過濾裝置對應安裝處設置有承接環(huán)，以用于安裝錐形管路接頭一和錐形管路接頭二，所述錐形管路接頭一和錐形管路接頭二均由安裝環(huán)和錐形管組成，兩個所述錐形管相對設置，所述柱狀過濾網(wǎng)結構包括筒型過濾網(wǎng)、設置在筒型過濾網(wǎng)兩端的過濾承接口以及若干沿筒形過濾網(wǎng)軸線方向平行且均勻分布的圓形過濾網(wǎng)，圓形過濾網(wǎng)與筒型過濾網(wǎng)固定連接，所述過濾承接口的豎直界面面積均與錐形管路接頭一和錐形管路接頭二的錐形管端面的面積相等，所述錐形管路接頭一和錐形管路接頭二的相對開口處均固設有與柱狀濾網(wǎng)兩端匹配的弧形彈性卡，以用于將柱狀濾網(wǎng)結構卡接在錐形管路接頭一和錐形管路接頭二上，所述過濾承接口的卡接處設置有與弧形彈性卡相匹配的環(huán)形凸起，所述錐形管路接頭一的安裝環(huán)外徑大于承接環(huán)的外徑且沿安裝環(huán)外圈內側開設有若干滑槽，以用于與套管滑動連接。
進一步地，所述套管靠近錐形管路接頭一的一端管壁端面上固設有密封環(huán)，密封環(huán)靠近承接環(huán)一側嵌入有密封圈，以用于與承接環(huán)配合防止廢水外泄，套管內壁上對應若干滑槽的位置固設有與滑槽匹配且數(shù)量對應的滑軌，所述滑軌均平行于套管軸線方向，所述套管遠離密封環(huán)的一端設置有鎖緊機構，所述鎖緊機構包括轉動連接在套管上的鎖緊桿、套舍在鎖緊桿上的壓縮彈簧、固設在鎖緊桿頭的限位凸起以及開設在排放管壁上與限位凸起匹配的限位凹槽。
進一步地，所述滑軌靠近鎖緊機構一端設置有限位環(huán)，以用于限定套管在安裝環(huán)上滑動的位置，所述套管上對應鎖緊桿的位置設置開設有凸起容納槽，所述壓縮彈簧一端緊抵凸起容納槽頂壁。
進一步地，所述沉淀池一側設置有中轉池，以用于將破氰處理后的廢水暫存在中轉池中，所述中轉池與沉淀池通過S型管路連通。
進一步地，所述中轉池側壁上固設有電極固定架，電機固定架上固設有若干鐵金屬電極板，若干所述鐵金屬電極板沿豎直方向平均分布且相互平行，鐵金屬電極板通過導線與外部電源電連接。
進一步地，所述生產電子產品廢水處理系統(tǒng)處理廢水的步驟如下：
步驟S1，將廢水通過過濾網(wǎng)，過濾去除廢水中的沉淀物；
步驟S2，將步驟S1中過濾后的廢水排入除鉻反應罐中，通過加藥裝置加入鐵鹽，罐體內溫度在65℃～75℃，并與空氣充分攪拌，靜止浴溫30min，得到上清液；
步驟S3，將步驟S2中得到的上清液排入破氰反應罐中，通過臭氧發(fā)生裝置生成的臭氧在破氰反應罐中進行曝氣處理，得到預處理的廢水；
步驟S4，將步驟S3中得到的廢水在中轉池中流經(jīng)鐵金屬電極板，外部電源打開，鐵金屬電極板通電，對中轉池中的廢水進行電絮凝處理；
步驟S5，將步驟S4中電絮凝處理后的廢水排入沉淀池中，調節(jié)PH值至6.2～6.7，加入硫化鈉，靜置1.5h；
步驟S6，將步驟S5中沉淀池內沉淀處理后的廢水排入常規(guī)水處理系統(tǒng)連通，對廢水進行后續(xù)的常規(guī)污染物達標處理。
更進一步地，所述除鉻反應罐底部連通有鉻金屬回收裝置，以用于對去除的含鉻沉淀物進行回收。
進一步地，所述的沉淀池底部通過管路連通有沉淀回收裝置，以用于對沉淀池中的沉淀物進行集中收集和處置。
（發(fā)明人：馬賞;王亞龍;劉暢;許煜瀟）
