公布日：2022.12.13
申請日：2022.10.08
分類號：C02F1/66(2006.01)I;C02F1/52(2006.01)I;C02F101/22(2006.01)N;C02F103/16(2006.01)N
摘要
本發(fā)明公開了一種工業(yè)排放的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置和方法，包括攪拌裝置和加料裝置；彈性波紋管的下端固定安裝于沉淀罐的頂面上，彈性波紋管的頂部具有封堵部，封堵部上偏心設(shè)置有偏心進(jìn)料孔；環(huán)形限位件固定安裝于彈性波紋管的頂面上，環(huán)形限位件上設(shè)置有環(huán)形凹槽；加料組件包括錐形倉和豎向延伸管；豎向延伸管的內(nèi)腔中設(shè)置有偏心漏斗，偏心伸出部的下端部形成有偏心出料孔；豎向延伸管可轉(zhuǎn)動地安裝于環(huán)形限位件的環(huán)形凹槽中，偏心伸出部的下端面與封堵部的上表面抵接；高度基準(zhǔn)定位組件包括多個支持柱和定位環(huán)；定位環(huán)的頂面低于環(huán)形限位件的底面。本發(fā)明能夠?qū)υ贤斗帕窟M(jìn)行準(zhǔn)確控制，具有操作方便和加料精準(zhǔn)的特點(diǎn)。
權(quán)利要求書
1.一種工業(yè)排放的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置，包括攪拌裝置，所述攪拌裝置包括支撐架和設(shè)置于所述支撐架上的沉淀罐；所述沉淀罐的頂面上設(shè)置有進(jìn)水口和進(jìn)料口，其底面上設(shè)置有排料口；其特征在于，還包括加料裝置，所述加料裝置包括：彈性波紋管，所述彈性波紋管的下端固定安裝于所述沉淀罐的頂面上，所述彈性波紋管的頂部具有封堵部，所述封堵部上偏心設(shè)置有偏心進(jìn)料孔，所述所述彈性波紋管的下端形成排料孔，所述排料孔與所述進(jìn)料口連通；環(huán)形限位件，所述環(huán)形限位件固定安裝于所述彈性波紋管的頂面上，所述環(huán)形限位件的中部設(shè)置有貫通孔，所述環(huán)形限位件上位于貫通孔的周緣設(shè)置有環(huán)形凹槽；加料組件，所述加料組件包括錐形倉和設(shè)置于錐形倉下部的豎向延伸管；所述豎向延伸管的內(nèi)腔中設(shè)置有偏心漏斗，所述偏心漏斗具有穿出所述豎向延伸管的下端口的偏心伸出部，所述偏心伸出部的下端部形成有偏心出料孔；所述豎向延伸管可轉(zhuǎn)動地安裝于所述環(huán)形限位件的環(huán)形凹槽中，所述偏心伸出部的下端面與所述封堵部的上表面抵接；錐形倉可在外力作用下繞環(huán)形限位件的軸線旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而帶動偏心漏斗繞環(huán)形限位件的軸線旋轉(zhuǎn)，以使偏心出料孔與偏心進(jìn)料孔連通或斷開；高度基準(zhǔn)定位組件，所述高度基準(zhǔn)定位組件包括多個固定安裝于所述沉淀罐的頂面上的支持柱和設(shè)置于多個支持柱的頂面的定位環(huán)；所述彈性波紋管位于所述定位環(huán)的中心孔中，所述定位環(huán)的頂面在豎直方向低于所述環(huán)形限位件的底面。
2.如權(quán)利要求1所述的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置，其特征在于，還包括彈簧，所述彈簧套接于所述彈性波紋管上，所述彈簧的下端與所述沉淀罐的頂面連接，其上端與所述環(huán)形限位件的底面連接。
3.如權(quán)利要求1所述的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置，其特征在于，所述豎向延伸管的外側(cè)壁上還設(shè)置有轉(zhuǎn)盤。
4.如權(quán)利要求1所述的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置，其特征在于，所述豎向延伸管通過軸承安裝于所述環(huán)形限位件的環(huán)形凹槽中。
5.如權(quán)利要求1所述的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置，其特征在于，還包括：導(dǎo)引組件，所述導(dǎo)引組件設(shè)置于所述沉淀罐的內(nèi)腔上部，所述導(dǎo)引組件包括圓錐形導(dǎo)引盤，所述圓錐形導(dǎo)引盤的內(nèi)部形成有圓錐型空腔；所述圓錐形導(dǎo)引盤的上部中心沿豎直方向向上延伸設(shè)有第一導(dǎo)引管，所述第一導(dǎo)引管的上端與所述沉淀罐的頂部固定連接，所述第一導(dǎo)引管的上端口與所述進(jìn)料口連通，其下端口與所述圓錐型空腔連通；圓錐形導(dǎo)引盤的下部沿豎向延伸出與圓錐型空腔連通的圓環(huán)形凹槽；圓環(huán)形凹槽的底面開口處可轉(zhuǎn)動地連接有圓環(huán)形連接板，圓環(huán)形連接板下部沿豎直方向向下延伸設(shè)有多個均勻分布第二導(dǎo)引管；所述第二導(dǎo)引管與所述圓環(huán)形凹槽連通，所述所述圓錐型空腔的底壁上設(shè)置有上出藥孔；攪拌機(jī)構(gòu)，所述攪拌機(jī)構(gòu)包括攪拌槳、第一齒輪、第二齒輪和電機(jī)；所述攪拌槳包括攪拌軸及槳葉組件；所述攪拌軸的一端可轉(zhuǎn)動地安裝于所述處理罐的底壁上；所述攪拌軸的中部設(shè)置有螺紋部，所述螺紋部的上端形成上行限位部，其下端形成下行限位部；所述槳葉組件包括與所述攪拌軸的螺紋部螺紋連接的圓環(huán)形連接板，所述圓環(huán)形連接板的徑向延伸有多個均勻分布的支撐桿，每個所述支撐桿的中部設(shè)置有槳葉；所述攪拌軸位于處理罐底壁外的端部固定連接有所述第一齒輪；所述電機(jī)固定安裝于所述支撐架上，所述電機(jī)的輸出軸上固定連接有所述第二齒輪，所述第二齒輪與所述第一齒輪相互嚙合；每個所述支撐桿的遠(yuǎn)離攪拌軸的一端設(shè)置有一個豎向插接管，所述豎向插接管的下部設(shè)置有下出藥孔；多個所述豎向插接管一一對應(yīng)插接于多個所述第二導(dǎo)引管中。
6.如權(quán)利要求5所述的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置，其特征在于，所述豎向插接管的數(shù)量為六個，所述第二導(dǎo)引管的數(shù)量為六個、所述支撐桿的數(shù)量為六個。
7.如權(quán)利要求5所述的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置，其特征在于，所述攪拌軸的頂部支撐在所述圓錐形導(dǎo)引盤的底面上。
8.如權(quán)利要求5所述的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置，其特征在于，所述沉淀罐包括頂部開口的罐體和上蓋；所述上蓋以可拆卸的方式安裝于所述罐體的頂部開口處；所述加料裝置安裝于所述上蓋的頂面上。
9.如權(quán)利要求8所述的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置，其特征在于，所述導(dǎo)引組件固定安裝于所述上蓋的底面上。
10.一種電鍍含鉻廢水沉淀處理方法，其特征在于，采用如權(quán)利要求1-9任意一項所述的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置，具體包括以下步驟：S10)注入廢水步驟：首先操作人員通過進(jìn)水口向處理罐的內(nèi)腔通入廢水；S20)加藥步驟：驅(qū)動錐形倉旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而帶動偏心漏斗繞環(huán)形限位件的軸線旋轉(zhuǎn)，以使偏心出料孔與偏心進(jìn)料孔斷開；然后將氫氧化鈉逐漸加入錐形倉內(nèi)，由于偏心漏斗的偏心出料孔被封堵部封堵，隨著氫氧化鈉加入量的增多，使得使得彈性波紋管和彈簧被壓縮，從而帶動環(huán)形限位件逐漸下降，當(dāng)環(huán)形限位件下降至與環(huán)形定位環(huán)的頂部平齊時，停止添加氫氧化鈉，此時氫氧化鈉的添加量為反應(yīng)預(yù)設(shè)值；驅(qū)動錐形倉反方向旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而帶動偏心漏斗繞環(huán)形限位件的軸線反方向旋轉(zhuǎn)，以使偏心出料孔與偏心進(jìn)料孔連通；氫氧化鈉依次通過偏心出料孔、偏心進(jìn)料孔、彈性波紋管、進(jìn)料口、第一導(dǎo)引管進(jìn)入到圓錐型空腔中；圓錐型空腔中的一部分氫氧化鈉經(jīng)過圓錐型空腔的的上出藥孔直接進(jìn)入沉淀罐的內(nèi)部，并與頂部廢水混合；另一部分氫氧化鈉均勻分散至圓錐形導(dǎo)引盤底部、并通過圓環(huán)形凹槽、第二導(dǎo)引管進(jìn)入豎向插接管中；S30)混合步驟：啟動電機(jī)，電機(jī)帶動攪拌軸旋轉(zhuǎn)，由于豎向插接管插接于第二導(dǎo)引管中，此時環(huán)形連接盤位于上行限位部，因此，使得環(huán)形連接盤帶著支撐桿、豎向插接管、圓環(huán)形連接板沿攪拌軸向下進(jìn)行移動，使得豎向插接管下部的下出藥孔能夠與底部的廢水接觸，當(dāng)環(huán)形連接盤下移至下行限位部時，攪拌軸帶動環(huán)形連接盤、支撐桿、槳葉、豎向插接管、圓環(huán)形連接板共同繞攪拌軸旋轉(zhuǎn)，使得廢水與氫氧化鈉反應(yīng)產(chǎn)生含鉻沉淀物，反應(yīng)完成后，含鉻的沉淀通過排料口能夠從排料口排出；控制電機(jī)反轉(zhuǎn)，使得環(huán)形連接盤帶著支撐桿、豎向插接管、圓環(huán)形連接板沿攪拌軸向上進(jìn)行移動，直至環(huán)形連接盤上移至上行限位部，此時豎向插接管下部的下出藥孔位于第二導(dǎo)引管中。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種工業(yè)排放的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置和方法，其能夠?qū)υ贤斗帕窟M(jìn)行準(zhǔn)確控制，具有操作方便和加料精準(zhǔn)的特點(diǎn)。
本發(fā)明第一方面提供在于一種工業(yè)排放的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置，包括攪拌裝置，所述攪拌裝置包括支撐架和設(shè)置于所述支撐架上的沉淀罐；所述沉淀罐的頂面上設(shè)置有進(jìn)水口和進(jìn)料口，其底面上設(shè)置有排料口；還包括加料裝置，所述加料裝置包括：
彈性波紋管，所述彈性波紋管的下端固定安裝于所述沉淀罐的頂面上，所述彈性波紋管的頂部具有封堵部，所述封堵部上偏心設(shè)置有偏心進(jìn)料孔，所述所述彈性波紋管的下端形成排料孔，所述排料孔與所述進(jìn)料口連通；
環(huán)形限位件，所述環(huán)形限位件固定安裝于所述彈性波紋管的頂面上，所述環(huán)形限位件的中部設(shè)置有貫通孔，所述環(huán)形限位件上位于貫通孔的周緣設(shè)置有環(huán)形凹槽；
加料組件，所述加料組件包括錐形倉和設(shè)置于錐形倉下部的豎向延伸管；所述豎向延伸管的內(nèi)腔中設(shè)置有偏心漏斗，所述偏心漏斗具有穿出所述豎向延伸管的下端口的偏心伸出部，所述偏心伸出部的下端部形成有偏心出料孔；所述豎向延伸管可轉(zhuǎn)動地安裝于所述環(huán)形限位件的環(huán)形凹槽中，所述偏心伸出部的下端面與所述封堵部的上表面抵接；錐形倉可在外力作用下繞環(huán)形限位件的軸線旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而帶動偏心漏斗繞環(huán)形限位件的軸線旋轉(zhuǎn)，以使偏心出料孔與偏心進(jìn)料孔連通或斷開；
高度基準(zhǔn)定位組件，所述高度基準(zhǔn)定位組件包括多個固定安裝于所述沉淀罐的頂面上的支持柱和設(shè)置于多個支持柱的頂面的定位環(huán)；所述彈性波紋管位于所述定位環(huán)的中心孔中，所述定位環(huán)的頂面在豎直方向低于所述環(huán)形限位件的底面。
在本發(fā)明第一方面中，作為一種優(yōu)選的實(shí)施例，還包括彈簧，所述彈簧套接于所述彈性波紋管上，所述彈簧的下端與所述沉淀罐的頂面連接，其上端與所述環(huán)形限位件的底面連接。
在本發(fā)明第一方面中，作為一種優(yōu)選的實(shí)施例，所述豎向延伸管的外側(cè)壁上還設(shè)置有轉(zhuǎn)盤。
在本發(fā)明第一方面中，作為一種優(yōu)選的實(shí)施例，所述豎向延伸管通過軸承安裝于所述環(huán)形限位件的環(huán)形凹槽中。
在本發(fā)明第一方面中，作為一種優(yōu)選的實(shí)施例，還包括：
導(dǎo)引組件，所述導(dǎo)引組件設(shè)置于所述沉淀罐的內(nèi)腔上部，所述導(dǎo)引組件包括圓錐形導(dǎo)引盤，所述圓錐形導(dǎo)引盤的內(nèi)部形成有圓錐型空腔；所述圓錐形導(dǎo)引盤的上部中心沿豎直方向向上延伸設(shè)有第一導(dǎo)引管，所述第一導(dǎo)引管的上端與所述沉淀罐的頂部固定連接，所述第一導(dǎo)引管的上端口與所述進(jìn)料口連通，其下端口與所述圓錐型空腔連通；圓錐形導(dǎo)引盤的下部沿豎向延伸出與圓錐型空腔連通的圓環(huán)形凹槽；圓環(huán)形凹槽的底面開口處可轉(zhuǎn)動地連接有圓環(huán)形連接板，圓環(huán)形連接板下部沿豎直方向向下延伸設(shè)有多個均勻分布第二導(dǎo)引管；所述第二導(dǎo)引管與所述圓環(huán)形凹槽連通，所述所述圓錐型空腔的底壁上設(shè)置有上出藥孔；
攪拌機(jī)構(gòu)，所述攪拌機(jī)構(gòu)包括攪拌槳、第一齒輪、第二齒輪和電機(jī)；所述攪拌槳包括攪拌軸及槳葉組件；所述攪拌軸的一端可轉(zhuǎn)動地安裝于所述處理罐的底壁上；所述攪拌軸的中部設(shè)置有螺紋部，所述螺紋部的上端形成上行限位部，其下端形成下行限位部；所述槳葉組件包括與所述攪拌軸的螺紋部螺紋連接的圓環(huán)形連接板，所述圓環(huán)形連接板的徑向延伸有多個均勻分布的支撐桿，每個所述支撐桿的中部設(shè)置有槳葉；所述攪拌軸位于處理罐底壁外的端部固定連接有所述第一齒輪；所述電機(jī)固定安裝于所述支撐架上，所述電機(jī)的輸出軸上固定連接有所述第二齒輪，所述第二齒輪與所述第一齒輪相互嚙合；每個所述支撐桿的遠(yuǎn)離攪拌軸的一端設(shè)置有一個豎向插接管，所述豎向插接管的下部設(shè)置有下出藥孔；多個所述豎向插接管一一對應(yīng)插接于多個所述第二導(dǎo)引管中。
在本發(fā)明第一方面中，作為一種優(yōu)選的實(shí)施例，所述豎向插接管的數(shù)量為六個，所述第二導(dǎo)引管的數(shù)量為六個、所述支撐桿的數(shù)量為六個。
在本發(fā)明第一方面中，作為一種優(yōu)選的實(shí)施例，所述攪拌軸的頂部支撐在所述圓錐形導(dǎo)引盤的底面上。
在本發(fā)明第一方面中，作為一種優(yōu)選的實(shí)施例，所述沉淀罐包括頂部開口的罐體和上蓋；所述上蓋以可拆卸的方式安裝于所述罐體的頂部開口處；所述加料裝置安裝于所述上蓋的頂面上。
在本發(fā)明第一方面中，作為一種優(yōu)選的實(shí)施例，所述導(dǎo)引組件固定安裝于所述上蓋的底面上。
本發(fā)明第二方面在于提供一種工業(yè)排放的電鍍含鉻廢水沉淀處理方法，采用本發(fā)明第一方面所述的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置，具體包括以下步驟：
S10)注入廢水步驟：首先操作人員通過進(jìn)水口向處理罐的內(nèi)腔通入廢水；
S20)加藥步驟：驅(qū)動錐形倉旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而帶動偏心漏斗繞環(huán)形限位件的軸線旋轉(zhuǎn)，以使偏心出料孔與偏心進(jìn)料孔斷開；然后將氫氧化鈉逐漸加入錐形倉內(nèi)，由于偏心漏斗的偏心出料孔被封堵部封堵，隨著氫氧化鈉加入量的增多，使得使得彈性波紋管和彈簧被壓縮，從而帶動環(huán)形限位件逐漸下降，當(dāng)環(huán)形限位件下降至與環(huán)形定位環(huán)的頂部平齊時，停止添加氫氧化鈉，此時氫氧化鈉的添加量為反應(yīng)預(yù)設(shè)值；驅(qū)動錐形倉反方向旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而帶動偏心漏斗繞環(huán)形限位件的軸線反方向旋轉(zhuǎn)，以使偏心出料孔與偏心進(jìn)料孔連通；氫氧化鈉依次通過偏心出料孔、偏心進(jìn)料孔、彈性波紋管、進(jìn)料口、第一導(dǎo)引管進(jìn)入到圓錐型空腔中；圓錐型空腔中的一部分氫氧化鈉經(jīng)過圓錐型空腔的的上出藥孔直接進(jìn)入沉淀罐的內(nèi)部，并與頂部廢水混合；另一部分氫氧化鈉均勻分散至圓錐形導(dǎo)引盤底部、并通過第二導(dǎo)引管進(jìn)入豎向插接管中；
S30)混合步驟：啟動電機(jī)，電機(jī)帶動攪拌軸旋轉(zhuǎn)，由于豎向插接管插接于第二導(dǎo)引管中，此時環(huán)形連接盤位于上行限位部，因此，使得環(huán)形連接盤帶著支撐桿、豎向插接管、圓環(huán)形連接板沿攪拌軸向下進(jìn)行移動，使得豎向插接管下部的下出藥孔能夠與底部的廢水接觸，當(dāng)環(huán)形連接盤下移至下行限位部時，攪拌軸帶動環(huán)形連接盤、支撐桿、槳葉、豎向插接管、圓環(huán)形連接板共同繞攪拌軸旋轉(zhuǎn)，使得廢水與氫氧化鈉反應(yīng)產(chǎn)生含鉻沉淀物，反應(yīng)完成后，含鉻的沉淀通過排料口能夠從排料口排出；控制電機(jī)反轉(zhuǎn)，使得環(huán)形連接盤帶著支撐桿、豎向插接管、圓環(huán)形連接板沿攪拌軸向上進(jìn)行移動，直至環(huán)形連接盤上移至上行限位部，此時豎向插接管下部的下出藥孔位于第二導(dǎo)引管中。
相比現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的有益效果在于：
1、本發(fā)明的電鍍含鉻廢水沉淀處理裝置的加料裝置包括彈性波紋管、環(huán)形限位件、加料組件、高度基準(zhǔn)定位組件。在加藥過程中，驅(qū)動錐形倉旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而帶動偏心漏斗繞環(huán)形限位件的軸線旋轉(zhuǎn)，以使偏心出料孔與偏心進(jìn)料孔斷開；然后將氫氧化鈉逐漸加入錐形倉內(nèi)，由于偏心漏斗的偏心出料孔被封堵部封堵，隨著氫氧化鈉加入量的增多，使得彈性波紋管和彈簧被壓縮，從而帶動環(huán)形限位件逐漸下降，當(dāng)環(huán)形限位件下降至與環(huán)形定位環(huán)的頂部平齊時，停止添加氫氧化鈉，此時氫氧化鈉的添加量為反應(yīng)預(yù)設(shè)值。因此，本發(fā)明能夠?qū)υ贤斗帕窟M(jìn)行準(zhǔn)確控制，具有操作方便和加料精準(zhǔn)的特點(diǎn)。
2、本發(fā)明通過導(dǎo)引組件及攪拌機(jī)構(gòu)之間的配合，驅(qū)動錐形倉反方向旋轉(zhuǎn)，進(jìn)而帶動偏心漏斗繞環(huán)形限位件的軸線反方向旋轉(zhuǎn)，以使偏心出料孔與偏心進(jìn)料孔連通；氫氧化鈉依次通過偏心出料孔、偏心進(jìn)料孔、彈性波紋管、進(jìn)料口、第一導(dǎo)引管進(jìn)入到圓錐型空腔中；圓錐型空腔中的一部分氫氧化鈉經(jīng)過圓錐型空腔的的上出藥孔直接進(jìn)入沉淀罐的內(nèi)部，并與頂部廢水混合；另一部分氫氧化鈉均勻分散至圓錐形導(dǎo)引盤底部、并通過第二導(dǎo)引管進(jìn)入豎向插接管中；啟動電機(jī)，電機(jī)帶動攪拌軸旋轉(zhuǎn)，由于豎向插接管插接于第二導(dǎo)引管中，此時環(huán)形連接盤位于上行限位部，因此，使得環(huán)形連接盤帶著支撐桿、豎向插接管、圓環(huán)形連接板沿攪拌軸向下進(jìn)行移動，使得豎向插接管下部的下出藥孔能夠與底部的廢水接觸，當(dāng)環(huán)形連接盤下移至下行限位部時，攪拌軸帶動環(huán)形連接盤、支撐桿、槳葉、豎向插接管、圓環(huán)形連接板共同繞攪拌軸旋轉(zhuǎn)，使得廢水與氫氧化鈉反應(yīng)產(chǎn)生含鉻沉淀物，反應(yīng)完成后，含鉻的沉淀通過排料口能夠從排料口排出；控制電機(jī)反轉(zhuǎn)，使得環(huán)形連接盤帶著支撐桿、豎向插接管、圓環(huán)形連接板沿攪拌軸向上進(jìn)行移動，直至環(huán)形連接盤上移至上行限位部，此時豎向插接管下部的下出藥孔位于第二導(dǎo)引管中；使得裝置能夠?qū)溲趸c分別加入廢水的頂部和下部，使得廢水能夠與氫氧化鈉快速混合反應(yīng)，使得裝置的混合效果好。
（發(fā)明人：王偉;王禹博）
