申請日2010.06.04

　　公開(公告)日2011.01.26

　　IPC分類號C02F1/461

　　摘要

　　本實用新型是一種控制槽，特別涉及一種適用于電化學原理對各類水體進行電解方式的反應處理，除了能有效的控制水體的流量、流速，達到反應器的最佳處理效果，同時也適應超大排量的污水深度處理工程的電化方式水處理時間流量控制槽。包括槽體，槽體中設(shè)有單體處理槽，單體處理槽包括上位水過流隔墻、下位水過流隔墻和排污孔，下位水過流隔墻的底部設(shè)有下位過流水道空間，上位水過流隔墻和下位水過流隔墻形成單體處理槽，單體處理槽中設(shè)有排污孔。有效的提高電解處理效果，釋放電解材料的最大反應功效，操作方便，自動化程度高。

　　摘要附圖

 

　　權(quán)利要求書

　　1.一種電化方式水處理時間流量控制槽，其特征在于：包括槽體(1)，所述的槽體(1)中設(shè)有單體處理槽(2)，所述的單體處理槽(2)包括上位水過流隔墻(3)、下位水過流隔墻(4)和排污孔(5)，所述的下位水過流隔墻(3)的底部設(shè)有下位過流水道空間(6)，所述的上位水過流隔墻(3)和下位水過流隔墻(4)形成單體處理槽(2)，單體處理槽(2)中設(shè)有排污孔(5)。

　　2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電化方式水處理時間流量控制槽，其特征在于：所述的槽體(1)中設(shè)有2個及以上的單體處理槽(2)，槽體(1)中設(shè)有分隔墻(7)，分隔墻(7)與槽體(1)的橫向側(cè)壁相平行，所述的分隔墻(7)與槽體(1)的橫向側(cè)壁間的兩端設(shè)有縱向的過流隔墻(14)，所述的過流隔墻(14)包括上位水過流隔墻(3)和下位水過流隔墻(4)，所述的上位水過流隔墻(3)與下位水過流隔墻(4)高度相同，2個單體處理槽(2)中的上位水過流隔墻(3)呈對角分布，2個單體處理槽(2)中的下位水過流隔墻(4)呈對角分布，2個單體處理槽(2)中的排污孔(5)呈對角分布。

　　3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電化方式水處理時間流量控制槽，其特征在于：所述的槽體(1)中設(shè)有偶數(shù)對單體處理槽(2)，偶數(shù)對單體處理槽(2)依次連接，所述的單體處理槽(2)中的上位水過流隔墻(3)、下位水過流隔墻(4)和排污孔(5)依次對角分布，所述的排污孔(5)與上位水過流隔墻(3)相貼近。

　　4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的電化方式水處理時間流量控制槽，其特征在于：所述的槽體(1)中的分隔墻(7)的尾部設(shè)有換流缺口(8)，所述的換流缺口(8)為水流換槽過流隔墻。

　　5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電化方式水處理時間流量控制槽，其特征在于：所述的換流缺口(8)設(shè)在分隔墻(7)尾部的上端，換流缺口(8)依次沿伸至槽體(1)中的縱向側(cè)壁，所述的換流缺口(8)呈直角梯形狀。

　　6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電化方式水處理時間流量控制槽，其特征在于：所述的排污孔(5)的底部設(shè)有排污連通機構(gòu)，排污連通機構(gòu)包括連通管(9)、定時自動電磁閥(10)和排泥管(11)，所述的連通管(9)中設(shè)有與排污孔(5)的數(shù)量相對應的連通孔(15)，所述的連通孔(15)與排污孔(5)相連通，所述的連通管(9)的尾部設(shè)有定時自動電磁閥(10)，定時自動電磁閥(10)的底部與排泥管(11)相連通。

　　7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電化方式水處理時間流量控制槽，其特征在于：所述的排污孔(5)的底部設(shè)有排污連通機構(gòu)，排污連通機構(gòu)包括連通管(9)、定時自動電磁閥(1)和排泥管(11)，所述的連通管(9)的一端與排污孔(5)相套接，連通管(9)的另一端設(shè)有定時自動電磁閥(10)，定時自動電磁閥(10)的底部與排泥管(11)相連通。

　　8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電化方式水處理時間流量控制槽，其特征在于：所述的槽體(1)的兩側(cè)側(cè)壁上分別設(shè)有壓板定位處(12)和穿線孔(13)。

　　9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電化方式水處理時間流量控制槽，其特征在于：所述的上位水過流隔墻(3)和下位水過流隔墻(4)為一體化，上位水過流隔墻(3)和下位水過流隔墻(4)與分隔墻(7)相插接。

　　10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電化方式水處理時間流量控制槽，其特征在于：所述的槽體(1)為鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)，或磚結(jié)構(gòu);槽體(1)的槽內(nèi)涂有光滑層。

　　說明書

　　電化方式水處理時間流量控制槽

　　技術(shù)領(lǐng)域

　　本實用新型是一種控制槽，特別涉及一種適用于電化學原理對各類水體進行電解方式的反應處理，除了能有效的控制水體的流量、流速，達到反應器的最佳處理效果，同時也適應超大排量的污水深度處理工程的電化方式水處理時間流量控制槽。

　　背景技術(shù)

　　現(xiàn)有技術(shù)中電法處理工業(yè)及城市污水技術(shù)，比傳統(tǒng)的處理方法有質(zhì)的區(qū)別，從技術(shù)角度分析，它綜合了化學、電解、電離、電絮凝和電氣浮等多種電效應，但電化法處理污水，除了電解材料和電控制系統(tǒng)以外，處理槽是一個不可忽略的關(guān)鍵系統(tǒng)，現(xiàn)有技術(shù)中的處理槽不能對污水的流量、流速、反應時間進行有效的控制，不能有效的提高電解處理效果，不能釋放電解材料的最大反應功效。

　　中國專利CN00262025.1，公開一種改良結(jié)構(gòu)的電解反應槽，具有電凝效果、在密閉系統(tǒng)下可連續(xù)操作且采用雙極式接電的改良結(jié)構(gòu)的電解反應槽，其在兩槽壁間設(shè)有復數(shù)具電極接點的電極板，兩電極板間設(shè)有導電隔板;電極板及導電隔板呈平行前后交錯排列，流道成W形多層流道;電極板及導電隔板以固定架導溝槽固定，可避免槽體內(nèi)表層絕緣材料磨損短路;以螺栓螺母、O-環(huán)及L型導電片組成簡易電極接點，可避免電化學腐蝕，亦可將數(shù)個電解反應單元串聯(lián)組合容設(shè)于一大型電解反應槽中。此實用新型所述的反應槽，結(jié)構(gòu)復雜，而且使用成本高，不能改變傳統(tǒng)電化法處理中的問題。

　　發(fā)明內(nèi)容

　　本實用新型主要是解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，提供一種含有對流量、流速、反應時間的控制以及除去浮泥和沉淀物的處理，可以有效的提高電解處理效果，釋放電解材料的最大反應功效的電化方式水處理時間流量控制槽。

　　本實用新型的上述技術(shù)問題主要是通過下述技術(shù)方案得以解決的：

　　一種電化方式水處理時間流量控制槽，包括槽體，所述的槽體中設(shè)有單體處理槽，所述的單體處理槽包括上位水過流隔墻、下位水過流隔墻和排污孔，所述的下位水過流隔墻的底部設(shè)有下位過流水道空間，所述的上位水過流隔墻和下位水過流隔墻形成單體處理槽，單體處理槽中設(shè)有排污孔。

　　在電化法方式下反應器在電能的作用下產(chǎn)生反應過程，使元素的化合價產(chǎn)生相應升降變化的化學反應，在CuO+H2=Cu+H2O式中可以看出氧化與還原的狀態(tài)，氧化反應：H2→2H++2e-;還原反應：Cl2+2e-→2Cl-。無論是氧化反應還是還原反應，此類反應都遵守電荷守恒，在氧化還原反應里，氧化與還原必然以等量同時進行，而在電化法處理狀態(tài)下，氧化與還原反應過程中受到時間、能量及流速的影響，為了能準確地協(xié)助氧化與還原過程中產(chǎn)生的這些等量守恒，處理槽的設(shè)計是否合理顯得非常重要。

　　單體處理槽組成一個組合槽體，上位水過流隔墻的出水隔墻高度應該高于反應器(組合槽體中的放置的反應器)，水面與反應器保持一定的空間距離，保持所有處理槽的上位水過流隔墻和下位水過流隔墻的高度一致，使所有單體處理槽內(nèi)的水處在同一高度水平面，單體處理槽的容量大小以及單體處理槽的數(shù)量，可以根據(jù)處理量及處理時間來決定，目的是為方便控制廢水在槽內(nèi)的停留時間，以便使水體能得到充分的電解處理。

　　下位過流水道空間高度應該根據(jù)具體流量的大小以及處理時間的長短進行調(diào)整。

　　如設(shè)計地為坡型地勢，可以將各個單體處理槽依次按一定的比例的高度設(shè)計成階梯型處理槽，使水流形成一定的落差。

　　大型的處理槽，往往需要較長距離的處理槽，這樣就不容易安排處理槽的位置，而且反應器鏈接使用的電線也會隨著處理槽的長度不斷的擴增，如果將處理槽進行雙槽合并、三槽合并、甚至多槽合并成一個方形組合、樓層組合，這樣不但可以減小處理槽的長度距離，方便安裝和集中管理，同時也能減少反應器鏈接使用的電線，節(jié)約土地使用面積。大型處理槽采用鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)建筑，小型的可以采用各類絕緣材料及磚結(jié)構(gòu)制作，處理槽需在槽風涂抹高標號水泥或者其它光滑材料，以防止污垢滯留在槽內(nèi)。

　　處理槽可以設(shè)計成空中橋梁形狀、方形組合形狀、樓層組合形狀、階梯型形狀，也可以在其它建筑物體的上方。如設(shè)計在地面上，處理槽整體下方鍄主留有一定的地面空間高度，以便能方便安裝排污管道和檢修人員進行工作，如設(shè)計為樓層組合，處理槽的排污連通管可以設(shè)計在下樓層的頂部位置。

　　采用流量、流速控制，即反應時間控制法，使被處理廢水在槽內(nèi)得到充分電解，以準確控制反應器處理用時間，最大限度地提高處理效果。

　　作為優(yōu)選，所述的槽體中設(shè)有2個及以上的單體處理槽，槽體中設(shè)有分隔墻，分隔墻與槽體的橫向側(cè)壁相平行，所述的分隔墻與槽體的橫向側(cè)壁間的兩端設(shè)有縱向的過流隔墻，所述的過流隔墻包括上位水過流隔墻和下位水過流隔墻，所述的上位水過流隔墻與下位水過流隔墻高度相同，2個單體處理槽中的上位水過流隔墻呈對角分布，2個單體處理槽中的下位水過流隔墻呈對角分布，2個單體處理槽中的排污孔呈對角分布。

　　每個單體處理槽中的排污孔位置應該設(shè)在下位水過流隔墻的另一面，即靠近這個單體處理槽中的上位水過流隔墻的附近，排污孔應該與水過流水道保持一定的距離，排污孔的直徑大小也應該根據(jù)單體處理槽容積的大小、泥量的多少決定。

　　上位水過流隔墻與下位水過流隔墻高度相同，主要是防止電化處理過程中所產(chǎn)生的氣浮懸浮物沒有滯留在槽內(nèi)。

　　上位水過流隔墻與下位水過流隔墻形成的下位過流水道和上位過流水道，主要控制單體槽內(nèi)的水不停留時間和控制水位高于反應器的目的，下位過流水道可根據(jù)流量的大小決定隔墻的高度。

　　作為優(yōu)選，所述的槽體中設(shè)有偶數(shù)對單體處理槽，偶數(shù)對單體處理槽依次連接，所述的單體處理槽中的上位水過流隔墻、下位水過流隔墻和排污孔依次對角分布，所述的排污孔與上位水過流隔墻相貼近。

　　作為優(yōu)選，所述的槽體中的分隔墻的尾部設(shè)有換流缺口，所述的換流缺口為水流換槽過流隔墻。

　　作為優(yōu)選，所述的換流缺口設(shè)在分隔墻尾部的上端，換流缺口依次沿伸至槽體中縱向側(cè)壁，所述的換流缺口呈直角梯形狀。

　　作為優(yōu)選，所述的排污孔的底部設(shè)有排污連通機構(gòu)，排污連通機構(gòu)包括連通管、定時自動電磁閥和排泥管，所述的連通管中設(shè)有與排污孔的數(shù)量相對應的連通孔，所述的連通孔與排污孔相連通，所述的連通管的尾部設(shè)有定時自動電磁閥，定時自動電磁閥的底部與排泥管相連通。

　　定時自動電磁閥安裝數(shù)量由廢水處理量決定，可以是多個排污孔連接一個定時自動電磁閥，也可以是單槽單獨使用一個定時自動電磁閥，通過定時自動電磁閥控制進行統(tǒng)一定時通過連通管排放污泥至污泥收集池。排污連通機構(gòu)可以將處理槽內(nèi)沉淀物，通過槽內(nèi)水的壓力作用及定時自動電磁閥控制作用，通過連通管排放至污泥池，排污孔位置應設(shè)在處理槽寬度的中間位置，并與隔墻留有一定的距離，這樣排污時下沉進入管道的水流會在槽內(nèi)產(chǎn)生一定的漩渦，如果排污孔離隔墻太近就不會產(chǎn)生水流漩渦，漩渦能幫助槽底泥漿快速聚集并縮短排泥的時間，以防止過多的水進入污泥池。

　　作為優(yōu)選，所述的排污孔的底部設(shè)有排污連通機構(gòu)，排污連通機構(gòu)包括連通管、定時自動電磁閥和排泥管，所述的連通管的一端與排污孔相套接，連通管的另一端設(shè)有定時自動電磁閥，定時自動電磁閥的底部與排泥管相連通。

　　作為優(yōu)選，所述的槽體的兩側(cè)側(cè)壁上分別設(shè)有壓板定位處和穿線孔。

　　作為優(yōu)選，所述的上位水過流隔墻和下位水過流隔墻為一體化，上位水過流隔墻和下位水過流隔墻與分隔墻相插接。

　　作為優(yōu)選，所述的槽體為鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)，或磚結(jié)構(gòu);槽體的槽內(nèi)涂有光滑層。

　　因此，本實用新型提供的電化方式水處理時間流量控制槽，有效的提高電解處理效果，釋放電解材料的最大反應功效，操作方便，自動化程度高。