申請日2015.11.13

　　公開(公告)日2016.08.03

　　IPC分類號C02F9/04; G01N27/00

　　摘要

　　本實用新型涉及電鍍廢水水處理技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于工業(yè)電鍍廢水破絡(luò)后殘余硫離子監(jiān)測系統(tǒng)。本實用新型包括通過管道連接的第一pH調(diào)節(jié)池、混合破絡(luò)池、混凝沉淀池、第二pH調(diào)節(jié)池，混合破絡(luò)池內(nèi)設(shè)置有自動控制裝置，自動控制裝置包括依次連接的硫化鈉藥劑槽、加藥泵、第一電動閥、第一自動控制器、第一銀硫離子電極，第一銀硫離子電極插入混合破絡(luò)池里。本實用新型檢測速度快，易于運行維護(hù)，響應(yīng)時間短;抗干擾能力強，不受其它具有氧化還原性物質(zhì)干擾，選擇性較強;能夠?qū)崿F(xiàn)在保證銅被完全去除的基礎(chǔ)上，對破絡(luò)后出水的殘余硫離子進(jìn)行實時監(jiān)測，以減少藥用成本以及保證后續(xù)生物單元正常運行。

　　權(quán)利要求書

　　1.一種用于工業(yè)電鍍廢水破絡(luò)后殘余硫離子監(jiān)測系統(tǒng)，其特征在于：包括第一pH調(diào)節(jié)池、混合破絡(luò)池、混凝沉淀池、第二pH調(diào)節(jié)池，其中，第一pH調(diào)節(jié)池出水口通過管道連接所述混合破絡(luò)池進(jìn)水口，所述混合破絡(luò)池出水口通過管道連接所述混凝沉淀池進(jìn)水口，所述混凝沉淀池出水口通過管道連接所述第二pH調(diào)節(jié)池進(jìn)水口，所述混合破絡(luò)池內(nèi)設(shè)置有自動控制裝置，所述自動控制裝置包括硫化鈉藥劑槽、加藥泵、第一銀硫離子電極、第一自動用于原位底泥修復(fù)藥劑投加的裝置控制器、第一電動閥，所述第一銀硫離子電極插入所述混合破絡(luò)池里，所述第一銀硫離子電極連接第一自動控制器，所述第一自動控制器連接所述加藥泵，所述加藥泵連接所述硫化鈉藥劑槽。

　　2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于工業(yè)電鍍廢水破絡(luò)后殘余硫離子監(jiān)測系統(tǒng)，其特征在于：所述自動控制裝置還包括依次連接的第二電動閥、第二自動控制器、第二銀硫離子電極，所述第二電動閥與所述加藥泵連接。

　　說明書

　　一種用于工業(yè)電鍍廢水破絡(luò)后殘余硫離子監(jiān)測系統(tǒng)

　　技術(shù)領(lǐng)域

　　本實用新型涉及電鍍廢水水處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種利用銀硫離子電極監(jiān)測硫化鈉法破絡(luò)后出水電位，實現(xiàn)印刷電路板廢水中重金屬銅的去除及廢水中殘余硫離子監(jiān)測系統(tǒng)及用于工業(yè)電鍍廢水破絡(luò)后殘余硫離子監(jiān)測系統(tǒng)。

　　背景技術(shù)

　　近年來電子加工制造業(yè)的飛速發(fā)展，產(chǎn)生了大量的電鍍廠及印刷電路板廠。在印刷電路板生產(chǎn)制造過程中，蝕板等工序中會產(chǎn)生銅離子和各種絡(luò)合形態(tài)銅等，并且在化學(xué)清洗、顯影等工序會含有高分子有機(jī)物。單純采用物理化學(xué)法處理電鍍廢水處理成本高，并且出水后水質(zhì)很難達(dá)到《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB8978-1996)規(guī)定標(biāo)準(zhǔn)，不能達(dá)標(biāo)排放。由于工業(yè)廢水中含有大量重金屬，其對微生物具有毒害作用，所以單獨采用生物法不能應(yīng)用于處理印刷電路板廢水。為使廢水能夠達(dá)標(biāo)排放，并且降低其運行成本，通常采用物理化學(xué)-生物法聯(lián)用來處理這類廢水。

　　由于印刷電路板廢水中含有大量絡(luò)合形態(tài)重金屬銅，所以生物處理前應(yīng)通過合適方法破絡(luò)以保證銅的去除。硫化鈉法破絡(luò)是一種應(yīng)用成熟的化學(xué)破絡(luò)方法，利用監(jiān)測水中氧化還原電位(ORP)來間接反應(yīng)水質(zhì)變化情況在在線監(jiān)測領(lǐng)域應(yīng)用較多。但在實際過程中利用ORP控制反應(yīng)情況有以下幾個缺點:1、ORP在測量過程當(dāng)中其穩(wěn)定之間較長，數(shù)值波動大，其結(jié)果可能會導(dǎo)致破絡(luò)出水離子波動較大，含有銅或者較高含量的殘余硫會進(jìn)入生物單元，對生物單元會造成沖擊。2、ORP并不能反映水體中過量硫化鈉的情況，使得水體中硫不能得到很好的控制，造成出水硫離子含量過高。

　　實用新型內(nèi)容

　　針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷或不足，本實用新型所要解決的技術(shù)問題是：提供一種用于工業(yè)電鍍廢水破絡(luò)后殘余硫離子監(jiān)測系統(tǒng)。

　　為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采取的技術(shù)方案為提供一種用于工業(yè)電鍍廢水破絡(luò)后殘余硫離子監(jiān)測系統(tǒng)，包括第一pH調(diào)節(jié)池、混合破絡(luò)池、混凝沉淀池、第二pH調(diào)節(jié)池，其中，第一pH調(diào)節(jié)池出水口通過管道連接所述混合破絡(luò)池進(jìn)水口，所述混合破絡(luò)池出水口通過管道連接所述混凝沉淀池進(jìn)水口，所述混凝沉淀池出水口通過管道連接所述第二pH調(diào)節(jié)池進(jìn)水口，所述混合破絡(luò)池內(nèi)設(shè)置有自動控制裝置，所述自動控制裝置包括硫化鈉藥劑槽、加藥泵、第一銀硫離子電極、第一自動控制器、第一電動閥，所述第一銀硫離子電極插入所述混合破絡(luò)池里，所述第一銀硫離子電極連接第一自動控制器，所述第一自動控制器連接所述加藥泵，所述加藥泵連接所述硫化鈉藥劑槽。

　　作為本實用新型的進(jìn)一步改進(jìn)，所述自動控制裝置還包括依次連接的第二電動閥、第二自動控制器、第二銀硫離子電極，所述第二電動閥與所述加藥泵連接。

　　本實用新型的有益效果是：1、檢測速度快，易于運行維護(hù)，響應(yīng)時間短。2、抗干擾能力強，不受其它具有氧化還原性物質(zhì)干擾，選擇性較強。3、能夠?qū)崿F(xiàn)在保證銅被完全去除的基礎(chǔ)上，對破絡(luò)后出水的殘余硫離子進(jìn)行實時監(jiān)測，以減少藥用成本以及保證后續(xù)生物單元正常運行。