申請日2014.11.10

　　公開(公告)日2015.03.25

　　IPC分類號C23C14/35; C02F103/02; C02F9/04; C02F1/00

　　摘要

　　本發(fā)明公開了一種濺射源水處理裝置和水處理方法，其中，所述裝置包括依次設(shè)置的進(jìn)水管(1)、濺射源組件(2)和出水管(3)，其中，所述濺射源組件(2)中還包括有至少一個表面附著有陶瓷薄膜的磁體(4)。本發(fā)明通過將濺射源組件中的磁體表面附著有陶瓷薄膜，從而使得在實際使用過程中，當(dāng)水通過濺射源組件時，使得濺射源組件中最易于被腐蝕的磁體得到保護(hù)，進(jìn)而使得該濺射源組件的被腐蝕程度大大降低，從而使得濺射裝置得到有效的保護(hù)，大大增加其使用壽命。

　　權(quán)利要求書

　　1.一種濺射源水處理裝置，其特征在于，所述裝置包括依次設(shè)置的進(jìn) 水管(1)、濺射源組件(2)和出水管(3)，其中，所述濺射源組件(2)中 還包括有至少一個表面附著有陶瓷薄膜的磁體(4)。

　　2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述進(jìn)水管(1)和所述 濺射源組件(2)之間還設(shè)置有水處理設(shè)備，且所述水處理設(shè)備中包括過濾 單元(5)，所述過濾單元(5)的過濾粒徑不大于25μm。

　　3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述水處理裝置中還包 括連接于所述過濾單元(5)的離子交換單元(6)，且所述離子交換單元(6) 中填充有離子交換樹脂。

　　4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述水處理裝置中還包 括連接于所述過濾單元(5)的水清潔單元(7)，且所述水清潔單元(7)中 至少包括水清潔劑。

　　5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于，所述水清潔劑為溶氧劑 和/或腐蝕抑制劑。

　　6.一種水處理方法，其特征在于，所述方法使用權(quán)利要求5所述的裝 置，所述方法包括將冷卻水依次流經(jīng)進(jìn)水管(1)、磁體(4)上附著有陶瓷 薄膜的濺射源組件(2)和出水管(3)。

　　7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述方法還包括將冷卻 水流經(jīng)過濾單元(5)后再流經(jīng)濺射源組件(2)，以將冷卻水中粒徑大于25μm 的雜質(zhì)濾除。

　　8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法還包括將冷卻 水流經(jīng)離子交換單元(6)，所述離子交換單元(6)連接于所述過濾單元(5) 以去除冷卻水中的離子。

　　9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法還包括將冷卻 水流經(jīng)含有水清潔劑的水清潔單元(7)。

　　說明書

　　濺射源水處理裝置和水處理方法

　　技術(shù)領(lǐng)域

　　本發(fā)明涉及濺射源中的冷卻水的處理領(lǐng)域，具體地，涉及一種濺射源水 處理裝置和水處理方法。

　　背景技術(shù)

　　在磁控濺射裝置中，都需要采用冷卻水，且該冷卻水會流入該磁控濺射 裝置中的濺射源組件中，但是濺射源組件在使用過程中，往往會因其內(nèi)部結(jié) 構(gòu)的材料間彼此電勢序列不同，因而產(chǎn)生較多的置換等化學(xué)反應(yīng)，尤其是濺 射源組件中的磁體，極易與其發(fā)生反應(yīng)。

　　因此，提供一種對濺射源組件腐蝕較小，延長磁體使用壽命的濺射源水 處理裝置和水處理方法是本發(fā)明亟需解決的問題。

　　發(fā)明內(nèi)容

　　針對上述現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中磁控濺射裝置中 的水對濺射源組件在使用過程中腐蝕較大的問題，從而提供一種對濺射源組 件腐蝕較小，延長磁體使用壽命的濺射源水處理裝置和水處理方法。

　　為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種濺射源水處理裝置，其中，所述 裝置包括依次設(shè)置的進(jìn)水管、濺射源組件和出水管，其中，所述濺射源組件 中還包括有至少一個表面附著有陶瓷薄膜的磁體。

　　優(yōu)選地，所述進(jìn)水管和所述濺射源組件之間還設(shè)置有水處理設(shè)備，且所 述水處理設(shè)備中包括過濾單元，所述過濾單元的過濾粒徑不大于25μm。

　　優(yōu)選地，所述水處理裝置中還包括連接于所述過濾單元的離子交換單 元，且所述離子交換單元中填充有離子交換樹脂。

　　優(yōu)選地，所述水處理裝置中還包括連接于所述過濾單元的水清潔單元， 且所述水清潔單元中至少包括水清潔劑。

　　優(yōu)選地，所述水清潔劑為溶氧劑和/或腐蝕抑制劑。

　　本發(fā)明還提供了一種水處理方法，其中，所述方法使用上述所述的裝置， 所述方法包括將冷卻水依次流經(jīng)進(jìn)水管、磁體上附著有陶瓷薄膜的濺射源組 件和出水管。

　　優(yōu)選地，所述方法還包括將冷卻水流經(jīng)過濾單元后再流經(jīng)濺射源組件， 以將冷卻水中粒徑大于25μm的雜質(zhì)濾除。

　　優(yōu)選地，所述方法還包括將冷卻水流經(jīng)離子交換單元，所述離子交換單 元連接于所述過濾單元以去除冷卻水中的離子。

　　優(yōu)選地，所述方法還包括將冷卻水流經(jīng)含有水清潔劑的水清潔單元。

　　根據(jù)上述技術(shù)方案，本發(fā)明通過將濺射源組件中的磁體表面附著有陶瓷 薄膜，從而使得在實際使用過程中，當(dāng)水通過濺射源組件時，使得濺射源組 件中最易于被腐蝕的磁體得到保護(hù)，進(jìn)而使得該濺射源組件的被腐蝕程度大 大降低，從而使得濺射裝置得到有效的保護(hù)，大大增加其使用壽命。

　　本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細(xì)說明。