申請日2014.01.13

　　公開(公告)日2014.09.03

　　IPC分類號(hào)G01N33/18; G01N1/20

　　摘要

　　本實(shí)用新型涉及一種廢水取樣裝置以及廢水監(jiān)測系統(tǒng)，包括取樣槽，傳感器伸入至所述取樣槽的廢水中進(jìn)行廢水監(jiān)測;所述廢水取樣裝置還包括用于清洗所述傳感器的清洗裝置，所述清洗裝置伸入至所述取樣槽中并位于所述傳感器的一側(cè)。通過所述清洗裝置對(duì)傳感器進(jìn)行清洗，有效地降低了傳感器上污染物指標(biāo)黏著，增加了數(shù)據(jù)監(jiān)測的準(zhǔn)確性，同時(shí)有效減少廢水取樣裝置和監(jiān)測儀表清洗周期。

　　權(quán)利要求書

　　1.一種廢水取樣裝置，包括一取樣槽，一傳感器伸入至所述取樣槽的廢水中進(jìn)行廢水監(jiān)測，其特征在于，所述廢水取樣裝置還包括用于清洗所述傳感器的清洗裝置，所述清洗裝置伸入至所述取樣槽的廢水中并位于所述傳感器的一側(cè)。

　　2.如權(quán)利要求1所述的廢水取樣裝置，其特征在于，所述取樣槽具有廢水入口以及廢水出口，所述廢水入口和廢水出口設(shè)置于所述取樣槽相對(duì)的側(cè)壁上。

　　3.如權(quán)利要求1所述的廢水取樣裝置，其特征在于，所述清洗裝置包括氣洗管道、氣洗控制閥門以及清洗噴頭，所述氣洗管道一端連接于一供氣裝置，另一端與所述清洗噴頭連接，所述氣洗控制閥門設(shè)置于所述氣洗管道上。

　　4.如權(quán)利要求1所述的廢水取樣裝置，其特征在于，所述清洗裝置包括水洗管道、水洗控制閥門以及清洗噴頭，所述水洗管道一端連接于一供水裝置，另一端與所述清洗噴頭連接，所述水洗控制閥門設(shè)置于所述水洗管道上。

　　5.如權(quán)利要求1所述的廢水取樣裝置，其特征在于，所述清洗裝置包括氣洗管道、氣洗控制閥門、水洗管道、水洗控制閥門、連接管道以及清洗噴頭，所述氣洗管道一端連接于一供氣裝置，所述氣洗控制閥門設(shè)置于所述氣洗管道上，所述水洗控制閥門設(shè)置于所述水洗管道上，所述水洗管道一端連接于一供水裝置，所述氣洗管道和水洗管道的另一端通過所述連接管道與所述清洗噴頭連接。

　　6.如權(quán)利要求3或4或5所述的廢水取樣裝置，其特征在于，所述清洗噴頭為圓形，表面設(shè)置有若干孔洞。

　　7.如權(quán)利要求1所述的廢水取樣裝置，其特征在于，所述廢水取樣裝置還包括曝氣裝置，所述曝氣裝置伸入至所述取樣槽的廢水中。

　　8.如權(quán)利要求7所述的廢水取樣裝置，其特征在于，所述曝氣裝置包括管壁上開有多個(gè)通孔的曝氣管道、曝氣連接管道和曝氣控制閥門，所述曝氣控制閥門設(shè)置于曝氣連接管道上，所述曝氣管道一端與曝氣連接管道連接。

　　9.如權(quán)利要求8所述的廢水取樣裝置，其特征在于，所述曝氣連接管道豎直向下，并在距離所述取樣槽的底部3～5cm處水平延伸，截止于距離廢水出口 10～20cm位置，并封閉管口。

　　10.如權(quán)利要求9所述的廢水取樣裝置，其特征在于，所述曝氣管道上的通孔均勻分布。

　　11.如權(quán)利要求8所述的廢水取樣裝置，其特征在于，所述廢水取樣裝置還包括設(shè)置于所述取樣槽中的擋流板和固定支架，所述擋流板位于所述曝氣連接管道和清洗裝置之間，所述傳感器設(shè)置于所述固定支架上。

　　12.一種廢水監(jiān)測系統(tǒng)，包括一傳感器，其特征在于，還包括如權(quán)利要求1所述的廢水取樣裝置。

　　說明書

　　廢水取樣裝置以及廢水監(jiān)測系統(tǒng)

　　技術(shù)領(lǐng)域

　　本實(shí)用新型涉及集成電路制造領(lǐng)域，特別涉及一種廢水取樣裝置以及廢水 監(jiān)測系統(tǒng)。

　　背景技術(shù)

　　集成電路制造領(lǐng)域的工業(yè)廢水主要含有兩個(gè)來源：一是集成電路器件電鍍 產(chǎn)生的電鍍廢水，包括電鍍廢液及電鍍清洗廢水，污染物指標(biāo)主要體現(xiàn)在酸堿 和金屬銅離子;二是集成電路器件電鍍工序前處理和電鍍工序廢氣處理，污染 物體現(xiàn)在酸堿和磷酸鹽。這些污染必須經(jīng)過投加化學(xué)反應(yīng)藥劑，與廢水進(jìn)行混 凝反應(yīng)，將廢水中的污染物從廢水中分離出來，達(dá)到凈化目的，最后進(jìn)入到排 污管道。

　　一般的，采用廢水監(jiān)測系統(tǒng)進(jìn)行廢水監(jiān)控，所述廢水監(jiān)測系統(tǒng)包括污染物 監(jiān)測與記錄部分以及廢水取樣裝置。通常在排污管道排污口前加裝廢水取樣裝 置進(jìn)行廢水采樣。污染物監(jiān)測與記錄部分負(fù)責(zé)廢水排放污染物的采集與監(jiān)測， 通常由傳感器、污染物指標(biāo)記錄儀等組成，將傳感器伸入到廢水取樣裝置中的 廢水內(nèi)，用于監(jiān)測廢水的酸堿度(pH)、化學(xué)需氧量(COD，Chemical Oxygen Demand)、氮磷濃度、固體懸浮物濃度(SS，Suspended solid)等。

　　然而，由于工業(yè)廢水水質(zhì)較臟，在廢水取樣裝置中容易形成分層沉淀，或 粘結(jié)到用于監(jiān)測的傳感器上，影響監(jiān)測的持續(xù)性、穩(wěn)定性與準(zhǔn)確性。

　　發(fā)明內(nèi)容

　　本實(shí)用新型的目的提供一種廢水取樣裝置，以提高廢水監(jiān)測的持續(xù)性、穩(wěn) 定性與準(zhǔn)確性。

　　為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種廢水取樣裝置，所述廢水 取樣裝置包括一取樣槽，一傳感器伸入至所述取樣槽的廢水中進(jìn)行廢水監(jiān)測， 其特征在于，所述廢水取樣裝置還包括用于清洗所述傳感器的清洗裝置，所述 清洗裝置伸入至所述取樣槽的廢水中并位于所述傳感器的一側(cè)。

　　可選的，所述取樣槽具有廢水入口以及廢水出口，所述廢水入口和廢水出 口設(shè)置于所述取樣槽相對(duì)的側(cè)壁上。

　　可選的，所述清洗裝置包括氣洗管道、氣洗控制閥門以及清洗噴頭，所述 氣洗管道一端連接于一供氣裝置，另一端與所述清洗噴頭連接，所述氣洗控制 閥門設(shè)置于所述氣洗管道上。

　　可選的，所述清洗裝置包括水洗管道、水洗控制閥門以及清洗噴頭，所述 水洗管道一端連接于一供水裝置，另一端與所述清洗噴頭連接，所述水洗控制 閥門設(shè)置于所述水洗管道上。

　　可選的，所述清洗裝置包括氣洗管道、氣洗控制閥門、水洗管道、水洗控 制閥門、連接管道以及清洗噴頭，所述氣洗管道一端連接于一供氣裝置，所述 氣洗控制閥門設(shè)置于所述氣洗管道上，所述氣洗控制閥門設(shè)置于所述氣洗管道 上，所述水洗控制閥門設(shè)置于所述水洗管道上，所述水洗管道一端連接于一供 水裝置，所述氣洗管道和水洗管道的另一端通過所述連接管道與所述清洗噴頭 連接。

　　可選的，所述清洗噴頭為圓形，表面設(shè)置有若干孔洞。

　　可選的，所述廢水取樣裝置還包括曝氣裝置，所述曝氣裝置伸入至所述取 樣槽的廢水中。

　　可選的，所述曝氣裝置包括曝氣管道、曝氣連接管道和曝氣控制閥門，所 述曝氣控制閥門設(shè)置于曝氣連接管道上。

　　可選的，所述曝氣連接管道豎直向下，并在距離所述取樣槽的底部3～5cm 處水平延伸，延伸至距離廢水出口10～20cm位置。

　　可選的，所述廢水取樣裝置還包括設(shè)置于所述取樣槽中的擋流板和固定支 架，所述擋流板位于所述曝氣連接管道和清洗裝置之間，所述傳感器設(shè)置于所 述固定支架上。

　　根據(jù)本實(shí)用新型的另一面，還提供一種廢水監(jiān)測系統(tǒng)，所述廢水監(jiān)測系統(tǒng) 包括傳感器，還包括如上所述的廢水取樣裝置。

　　與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的廢水取樣裝置加設(shè)了清洗裝置，通過清洗 裝置對(duì)傳感器進(jìn)行清洗，有效地降低了傳感器上污染物黏著，增加了數(shù)據(jù)監(jiān)測 的持續(xù)性、穩(wěn)定性與準(zhǔn)確性，同時(shí)有效減少廢水取樣裝置和監(jiān)測儀表清洗周 期。

　　進(jìn)一步的，本實(shí)用新型的廢水取樣裝置還加設(shè)曝氣裝置，使廢水取樣裝置 內(nèi)各處液體混合均勻，保證能夠持續(xù)、穩(wěn)定地監(jiān)測數(shù)據(jù)。

　　另外，本實(shí)用新型的廢水監(jiān)測系統(tǒng)由于使用了廢水取樣裝置，使得廢水監(jiān) 測能持續(xù)、穩(wěn)定與準(zhǔn)確地進(jìn)行，并減少了廢水取樣裝置和監(jiān)測儀表的清洗周 期。