公布日：2022.01.21
申請(qǐng)日：2021.10.18
分類號(hào)：C02F1/461(2006.01)I;C02F1/44(2006.01)I;C25C1/12(2006.01)I;C23F1/46(2006.01)I;C02F101/20(2006.01)N;C02F101/16(2006.01)N
摘要
本發(fā)明公開了一種協(xié)同處理含銅廢水與氨氮廢水的設(shè)備，包括電解槽，所述電解槽包括陽(yáng)極室、補(bǔ)充液室、陰極室，所述陽(yáng)極室中放置有陽(yáng)極板，所述陰極室中放置有陰極板，所述陽(yáng)極室、補(bǔ)充液室、陰極室采用陽(yáng)離子膜、陰離子膜分隔，工作時(shí)，陽(yáng)極室通入待處理的氨氮廢水，陰極室通入廢蝕刻液，補(bǔ)充液室通入電解質(zhì)溶液。本發(fā)明的有益效果是，通過將電解與膜分離技術(shù)相結(jié)合，解決了電解脫除氨氮工藝過程中陰極產(chǎn)生氫氣的問題，大大降低了該設(shè)備的安全風(fēng)險(xiǎn)，并且將蝕刻液再生處理工藝與氨氮廢水處理工藝合并處理，大大減少了環(huán)保設(shè)備數(shù)量、操作成本以及能耗和物耗，是一種高效、節(jié)能、環(huán)保的廢水綜合利用技術(shù)，便于企業(yè)推廣使用。
權(quán)利要求書
1.一種協(xié)同處理含銅廢水與氨氮廢水的設(shè)備，其特征在于，包括電解槽(1)，所述電解槽(1)包括陽(yáng)極室(2)、補(bǔ)充液室(3)、陰極室(4)，所述陽(yáng)極室(2)中放置有陽(yáng)極板(5)，所述陰極室(4)中放置有陰極板(6)，所述陽(yáng)極室(2)、補(bǔ)充液室(3)、陰極室(4)采用陽(yáng)離子膜(8)、陰離子膜(7)分隔，工作時(shí)，陽(yáng)極室(2)通入待處理的氨氮廢水，陰極室(4)通入廢蝕刻液，補(bǔ)充液室(3)通入電解質(zhì)溶液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種協(xié)同處理含銅廢水與氨氮廢水的設(shè)備，其特征在于，所述的陽(yáng)離子膜(8)即陽(yáng)離子交換膜，通過膜本體修飾制備或通過膜表面處理而獲得。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種協(xié)同處理含銅廢水與氨氮廢水的設(shè)備，其特征在于，所述的陰離子膜(7)即陰離子交換膜，通過膜本體修飾制備或通過膜表面處理而獲得。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種協(xié)同處理含銅廢水與氨氮廢水的設(shè)備，其特征在于，所述的廢蝕刻液為含有氯化銅的廢酸性蝕刻液、含有銅氨絡(luò)合物的廢堿性蝕刻液、硝酸剝掛液、硫酸銅電解液中任一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1－4任一項(xiàng)所述的一種協(xié)同處理含銅廢水與氨氮廢水的設(shè)備，其特征在于，所述電解質(zhì)溶液采用氯化氫水溶液或氯化鈉水溶液。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種協(xié)同處理含銅廢水與氨氮廢水的設(shè)備，其特征在于，所述電解質(zhì)溶液的選擇為與陰極室(4)的再生液對(duì)應(yīng)的陽(yáng)離子相匹配。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種協(xié)同處理含銅廢水與氨氮廢水的設(shè)備，其特征在于，所述電解質(zhì)溶液的濃度范圍為5％－飽和濃度。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種協(xié)同處理含銅廢水與氨氮廢水的設(shè)備，其特征在于，所述電解質(zhì)溶液的濃度范圍為8％－18％。
發(fā)明內(nèi)容
由于目前對(duì)于廢水處理存在一些缺陷，安全隱患也比較大，因此我們?cè)诂F(xiàn)有技術(shù)缺陷的基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)了一種協(xié)同處理含銅廢水與氨氮廢水的設(shè)備，能夠有效對(duì)氨氮廢水進(jìn)行處理，并且能夠?qū)~廢水進(jìn)行處理，進(jìn)一步幫助企業(yè)降低能耗，實(shí)現(xiàn)資源再生。
實(shí)現(xiàn)上述目的本發(fā)明的技術(shù)方案為，一種協(xié)同處理含銅廢水與氨氮廢水的設(shè)備，包括電解槽，所述電解槽包括陽(yáng)極室、補(bǔ)充液室、陰極室，所述陽(yáng)極室中放置有陽(yáng)極板，所述陰極室中放置有陰極板，所述陽(yáng)極室、補(bǔ)充液室、陰極室采用陽(yáng)離子膜、陰離子膜分隔，工作時(shí)，陽(yáng)極室通入待處理的氨氮廢水，陰極室通入廢蝕刻液，補(bǔ)充液室通入電解質(zhì)溶液。
對(duì)本技術(shù)方案的進(jìn)一步補(bǔ)充，所述的陽(yáng)離子膜即陽(yáng)離子交換膜，通過膜本體修飾制備或通過膜表面處理而獲得。
對(duì)本技術(shù)方案的進(jìn)一步補(bǔ)充，所述的陰離子膜即陰離子交換膜，通過膜本體修飾制備或通過膜表面處理而獲得。
對(duì)本技術(shù)方案的進(jìn)一步補(bǔ)充，所述的廢蝕刻液為含有氯化銅的廢酸性蝕刻液、含有銅氨絡(luò)合物的廢堿性蝕刻液、硝酸剝掛液、硫酸銅電解液中任一種。
對(duì)本技術(shù)方案的進(jìn)一步補(bǔ)充，所述電解質(zhì)溶液采用氯化氫水溶液或氯化鈉水溶液。
對(duì)本技術(shù)方案的進(jìn)一步補(bǔ)充，所述電解質(zhì)溶液的選擇為與陰極室的再生液對(duì)應(yīng)的陽(yáng)離子相匹配。
對(duì)本技術(shù)方案的進(jìn)一步補(bǔ)充，所述電解質(zhì)溶液的濃度范圍為5％－飽和濃度。
對(duì)本技術(shù)方案的進(jìn)一步補(bǔ)充，所述電解質(zhì)溶液的濃度范圍為8％－18％。
其有益效果在于，通過將電解與膜分離技術(shù)相結(jié)合，解決了電解脫除氨氮工藝過程中陰極產(chǎn)生氫氣的問題，大大降低了該設(shè)備的安全風(fēng)險(xiǎn)，該設(shè)備能夠協(xié)同處理含銅蝕刻廢液并實(shí)現(xiàn)蝕刻液再生，大大減少了線路板相關(guān)企業(yè)的廢水產(chǎn)生量和處理成本，同時(shí)，本發(fā)明能夠?qū)⑽g刻液再生處理工藝與氨氮廢水處理工藝合并處理，大大減少了環(huán)保設(shè)備數(shù)量、操作成本以及能耗和物耗，是一種高效、節(jié)能、環(huán)保的廢水綜合利用技術(shù)，便于企業(yè)推廣使用。
（發(fā)明人：雷仁華;周愛成;張和艷）
