申請日2014.09.03
公開(公告)日2017.05.10
IPC分類號B01D65/10; B01D65/06; C02F1/44
摘要
本發(fā)明提供一種水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置、水處理裝置及其運行方法以及水處理裝置的清洗方法。本發(fā)明的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置具備：非透過水管路(L11)，從分離膜裝置排出濃縮溶解成分和分散成分而成的非透過水(15)，所述分離膜裝置從被處理水(11)通過分離膜濃縮溶解成分和分散成分而獲得透過水;第1附著物檢測部(24A)，設(shè)置于從非透過水管路(L11)分支的非透過水分支管路(L12)，且具有第1檢測用分離膜(21A)，所述第1檢測用分離膜(21A)將分支的非透過水的一部分作為檢測液(15a)并將該檢測液(15a)分離為檢測用透過水(22)和檢測用非透過水(23);附著條件變更裝置，變更附著于第1檢測用分離膜(21A)的附著物的附著條件;及第1檢測用分離液流量測量裝置，測量在第1檢測用分離膜(21A)中分離的檢測用透過水(22)或檢測用非透過水(23)的任一者或兩者的流量。
權(quán)利要求書
1.一種水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，其特征在于，具備：
非透過水管路，從分離膜裝置排出濃縮溶解成分和分散成分而成的非透過水，所述分離膜裝置從被處理水通過分離膜濃縮溶解成分和分散成分而獲得透過水;
第1附著物檢測部，設(shè)置于從所述非透過水管路分支的非透過水分支管路，且具有第1檢測用分離膜，所述第1檢測用分離膜將所述分支的非透過水的一部分作為檢測液并將該檢測液分離為檢測用透過水和檢測用非透過水;
附著條件變更裝置，變更附著于所述第1檢測用分離膜的附著物的附著條件;及
第1檢測用分離液流量測量裝置，測量在所述第1檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水的任一者或兩者的流量。
2.一種水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，其特征在于，具備：
被處理水供給管路，向分離膜裝置供給被處理水，所述分離膜裝置通過分離膜濃縮溶解成分和分散成分而獲得透過水;
第2附著物檢測部，設(shè)置于從所述被處理水供給管路分支的分支管路，且具有第2檢測用分離膜，所述第2檢測用分離膜將所述分支的被處理水的一部分作為檢測液并將該檢測液分離為檢測用透過水和檢測用非透過水;
附著條件變更裝置，變更附著于所述第2檢測用分離膜的附著物的附著條件;及
第2檢測用分離液流量測量裝置，測量在所述第2檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水的任一者或兩者的流量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，其特征在于，
所述附著條件變更裝置為改變分支的所述檢測液的供給壓力的壓力調(diào)整裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，其特征在于，
所述附著條件變更裝置為改變分支的所述檢測液的供給流量的流量調(diào)整裝置。
5.一種水處理裝置，其特征在于，具備：
分離膜裝置，具有從被處理水濃縮溶解成分和分散成分而獲得透過水的分離膜;
非透過水管路，從所述分離膜裝置排出濃縮溶解成分和分散成分而成的非透過水;
第1附著物檢測部，設(shè)置于從所述非透過水管路分支的非透過水分支管路，且具有第1檢測用分離膜，所述第1檢測用分離膜將所述分支的非透過水的一部分作為檢測液并將該檢測液分離為檢測用透過水和檢測用非透過水;
附著條件變更裝置，變更附著于所述第1檢測用分離膜的附著物的附著條件;
第1檢測用分離液流量測量裝置，測量在所述第1檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水的任一者或兩者的流量;及
控制裝置，根據(jù)所述第1檢測用分離液流量測量裝置的測量結(jié)果，進行以下控制中的任一者或兩者，即執(zhí)行所述分離膜裝置的所述分離膜的清洗處理或變更為不使附著物附著于所述分離膜裝置的所述分離膜的運行條件。
6.一種水處理裝置，其特征在于，具備：
分離膜裝置，具有從被處理水濃縮溶解成分和分散成分而獲得透過水的分離膜;
被處理水供給管路，向所述分離膜裝置供給所述被處理水;
第2附著物檢測部，設(shè)置于從所述被處理水供給管路分支的被處理水分支管路，且具有第2檢測用分離膜，所述第2檢測用分離膜將所述分支的被處理水的一部分作為檢測液并將該檢測液分離為檢測用透過水和檢測用非透過水;
附著條件變更裝置，變更附著于所述第2檢測用分離膜的附著物的附著條件;
第2檢測用分離液流量測量裝置，測量在所述第2檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水的任一者或兩者的流量;及
控制裝置，根據(jù)所述第2檢測用分離液流量測量裝置的測量結(jié)果，進行以下控制中的任一者或兩者，即執(zhí)行所述分離膜裝置的所述分離膜的清洗處理或變更為不使附著物附著于所述分離膜裝置的所述分離膜的運行條件。
7.一種水處理裝置，其特征在于，具備：
分離膜裝置，具有從被處理水濃縮溶解成分和分散成分而獲得透過水的分離膜;
非透過水管路，從所述分離膜裝置排出濃縮溶解成分和分散成分而成的非透過水;
第1附著物檢測部，設(shè)置于從所述非透過水管路分支的非透過水分支管路，且具有第1檢測用分離膜，所述第1檢測用分離膜將所述分支的非透過水的一部分作為檢測液并將該檢測液分離為檢測用透過水和檢測用非透過水;
附著條件變更裝置，變更附著于所述第1檢測用分離膜的附著物的附著條件;
第1檢測用分離液流量測量裝置，測量在所述第1檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水的任一者或兩者的流量;
被處理水供給管路，向所述分離膜裝置供給所述被處理水;
第2附著物檢測部，設(shè)置于從所述被處理水供給管路分支的被處理水分支管路，且具有第2檢測用分離膜，所述第2檢測用分離膜將所述分支的被處理水的一部分作為檢測液并將該檢測液分離為檢測用透過水和檢測用非透過水;
附著條件變更裝置，變更附著于所述第2檢測用分離膜的附著物的附著條件;
第2檢測用分離液流量測量裝置，測量在所述第2檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水的任一者或兩者的流量;及
控制裝置，根據(jù)所述第1檢測用分離液流量測量裝置或第2檢測用分離液流量測量裝置的測量結(jié)果，進行以下控制中的任一者或兩者，即執(zhí)行所述分離膜裝置的所述分離膜的清洗處理或變更為不使附著物附著于所述分離膜裝置的所述分離膜的運行條件。
8.根據(jù)權(quán)利要求5至7中任一項所述的水處理裝置，其特征在于，
具備使來自所述分離膜裝置的所述非透過水的水分蒸發(fā)的蒸發(fā)器。
9.一種水處理裝置的運行方法，其特征在于，
所述水處理裝置的運行方法利用權(quán)利要求1所述的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，
通過第1檢測用分離液流量測量裝置測量在所述第1檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水時，
在變更附著于所述第1檢測用分離膜的附著物的附著條件且在所述檢測用透過水或檢測用非透過水的流量相較于規(guī)定量發(fā)生變化的情況下，
進行以下控制中的任一者或兩者，即執(zhí)行所述分離膜裝置的所述分離膜的清洗處理或變更為不使附著物附著于所述分離膜裝置的所述分離膜的運行條件。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，
所述附著物的附著條件的變更是變更分支的所述非透過水的供給壓力的情況，供給壓力為規(guī)定閾值以下。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，
所述附著物的附著條件的變更是變更分支的所述非透過水的供給流量的情況，供給流量為規(guī)定閾值以上。
12.一種水處理裝置的運行方法，其特征在于，
所述水處理裝置的運行方法利用權(quán)利要求2所述的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，
通過第2檢測用分離液流量測量裝置測量在所述第2檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水時，
在變更附著于所述第2檢測用分離膜的附著物的附著條件且在所述檢測用透過水或檢測用非透過水的流量相較于規(guī)定量發(fā)生變化的情況下，
進行以下控制中的任一者或兩者，即執(zhí)行所述分離膜裝置的所述分離膜的清洗處理或變更為不使附著物附著于所述分離膜裝置的所述分離膜的運行條件。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，
所述附著物的附著條件的變更是變更分支的所述被處理水的供給壓力的情況，供給壓力為規(guī)定閾值以下。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，
所述附著物的附著條件的變更是變更分支的所述被處理水的供給流量的情況，供給流量為規(guī)定閾值以上。
15.一種水處理裝置的運行方法，其特征在于，
所述水處理裝置的運行方法利用權(quán)利要求1所述的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，
通過第1檢測用分離液流量測量裝置測量在所述第1檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水時，
在變更附著于所述第1檢測用分離膜的附著物的附著條件且在所述檢測用透過水或檢測用非透過水的流量維持規(guī)定量的情況下，
變更所述分離膜裝置的運行條件。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，
所述附著物的附著條件是變更分支的所述非透過水的供給壓力的情況，供給壓力為規(guī)定閾值以上。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，
所述附著物的附著條件是變更分支的所述非透過水的供給流量的情況，
所述供給流量為規(guī)定閾值以下。
18.一種水處理裝置的運行方法，其特征在于，
所述水處理裝置的運行方法利用權(quán)利要求2所述的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，
通過第2檢測用分離液流量測量裝置測量在所述第2檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水時，
在變更附著于所述第2檢測用分離膜的附著物的附著條件且在所述檢測用透過水或檢測用非透過水的流量維持規(guī)定量的情況下，
變更所述分離膜裝置的運行條件。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，
所述附著物的附著條件是變更分支的所述被處理水的供給壓力的情況，供給壓力為規(guī)定閾值以上。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，
所述附著物的附著條件是變更分支的所述被處理水的供給流量的情況，
所述供給流量為規(guī)定閾值以下。
21.一種水處理裝置的清洗方法，其特征在于，
所述水處理裝置的清洗方法利用權(quán)利要求1所述的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，
通過所述第1檢測用分離液流量測量裝置測量在所述第1檢測用分離膜中分離的所述檢測用透過水或所述檢測用非透過水時，
選定所述檢測用透過水或所述檢測用非透過水的流量相較于規(guī)定量發(fā)生變化時的與附著于所述第1附著物檢測部的所述第1檢測用分離膜的附著物對應(yīng)的清洗液，并向所述分離膜裝置供給選定的清洗液。
22.一種水處理裝置的清洗方法，其特征在于，
所述水處理裝置的清洗方法利用權(quán)利要求2所述的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，
通過所述第2檢測用分離液流量測量裝置測量在所述第2檢測用分離膜中分離的所述檢測用透過水或所述檢測用非透過水時，
選定所述檢測用透過水或所述檢測用非透過水的流量相較于規(guī)定量發(fā)生變化時的與附著于所述第2附著物檢測部的所述第2檢測用分離膜的附著物對應(yīng)的清洗液，并向所述分離膜裝置供給選定的清洗液。
23.根據(jù)權(quán)利要求9或12所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，
使來自所述分離膜裝置的所述非透過水的水分蒸發(fā)。
說明書
水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置、水處理裝置及其運行方法以及水處理裝置的清洗方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置、水處理裝置及其運行方法以及水處理裝置的清洗方法。
背景技術(shù)
例如礦山廢水中含有黃鐵礦(FeS2)，該黃鐵礦被氧化而生成SO42-。為了中和礦山廢水而使用廉價Ca(OH)2。因此，礦山廢水中豐富地含有Ca2+及SO42-。
并且，已知咸水、污水及工業(yè)廢水中也豐富地含有Ca2+及SO42-。并且，在冷卻塔中，在從鍋爐等排出的高溫的排氣與冷卻水之間進行熱交換。通過該熱交換，冷卻水的一部分成為蒸氣，因此冷卻水中的離子被濃縮。因此，從冷卻塔排出的冷卻水(排污水)的Ca2-及SO42-等的離子濃度處于較高的狀態(tài)。
大量含有這些離子的水被施予脫鹽處理。作為實施脫鹽處理的濃縮裝置，例如已知有反滲透膜裝置、納濾膜裝置及離子交換膜裝置等。
然而，在利用這些裝置進行脫鹽處理時存在如下問題，即在高濃度的陽離子(例如鈣離子(Ca2+))和陰離子(例如硫酸離子(S042-))獲取其淡水時，若這些離子在膜表面濃縮，則有時超過難溶性礦物鹽即硫酸鈣(石膏(CaSO4))的溶解限度而作為附著物析出于膜表面，從而淡水的滲透通量(通量)降低。
因此，以往提出有作為監(jiān)控反滲透膜的方法，例如使用監(jiān)控反滲透膜裝置的反滲透膜的單元來進行肉眼判斷，從而檢測礦物鹽的結(jié)晶生成(專利文獻1)。
并且，提出有使來自淡水化裝置的濃縮水的至少一部分透過監(jiān)控用分離膜，并通過設(shè)置于該監(jiān)控用分離膜的前后的測壓計來監(jiān)控濃縮水中所含有的附著物析出于監(jiān)控用分離膜的膜表面(專利文獻2)。根據(jù)該提出的內(nèi)容，預先監(jiān)控原水(海水)被濃縮而附著物析出于過濾膜的膜表面，從而有效地抑制附著物析出于淡水化裝置的過濾膜的膜表面。
并且，專利文獻2中提出有為了進一步促進附著物析出，向供給至監(jiān)控用分離膜的濃縮水供給堿性藥劑。
以往技術(shù)文獻
專利文獻
專利文獻1：日本特表2009-524521號公報
專利文獻2：日本專利申請2010-282469號公報
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的技術(shù)課題
然而，專利文獻1所提出的監(jiān)控方法中，由于判斷監(jiān)控用單元中有礦物鹽的結(jié)晶的析出而反滲透膜也同樣地析出有礦物鹽，因此存在無法預先監(jiān)控結(jié)晶析出的前兆的問題。
并且，專利文獻2所提出的內(nèi)容中，由于需要檢測監(jiān)控用單元的前后的差壓，因此存在流路被附著物堵塞，只有在差壓發(fā)生變化的程度的附著物析出之后才能進行判斷的問題。并且，檢測附著物時需要一定程度的大小，例如原水的淡水化裝置的過濾膜程度的大小，存在監(jiān)控裝置規(guī)模變大的問題。
即，淡水化裝置的反滲透膜例如存儲1個螺旋膜的單位為1m的多個(例如5～8個)螺旋膜，從而構(gòu)成1個過濾膜用容器，并連結(jié)數(shù)百個以上該容器來進行原水的過濾時，監(jiān)控裝置的小型化有助于淡水化設(shè)備的小型化，因此期望出現(xiàn)實現(xiàn)盡可能小型化的監(jiān)控附著物的裝置。
并且，在供給堿性藥劑的情況下，雖然對于通過供給堿性藥劑而變得容易析出的附著成分(例如碳酸鈣、氫氧化鎂等)有效，但對于不依賴于pH的成分(例如石膏(CaSO4)、氟化鈣(CaF2)等)并沒有效果，因此存在無法應(yīng)用的問題。
本發(fā)明的課題在于鑒于上述問題提供一種能夠通過小型裝置預測附著物附著于反滲透膜裝置的反滲透膜，而且還預測附著物附著于分離膜裝置的分離膜的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置、水處理裝置及其運行方法以及水處理裝置的清洗方法。
用于解決技術(shù)課題的手段
用于解決上述課題的本發(fā)明的第1發(fā)明的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置的特征在于具備：非透過水管路，從分離膜裝置排出濃縮溶解成分和分散成分而成的非透過水，所述分離膜裝置從被處理水通過分離膜濃縮溶解成分和分散成分而獲得透過水;第1附著物檢測部，設(shè)置于從所述非透過水管路分支的非透過水分支管路，且具有第1檢測用分離膜，所述第1檢測用分離膜將所述分支的非透過水的一部分作為檢測液并將該檢測液分離為檢測用透過水和檢測用非透過水;附著條件變更裝置，變更附著于所述第1檢測用分離膜的附著物的附著條件;及第1檢測用分離液流量測量裝置，測量在所述第1檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水的任一者或兩者的流量。
第2發(fā)明的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置的特征在于具備：被處理水供給管路，向分離膜裝置供給被處理水，所述分離膜裝置通過分離膜濃縮溶解成分和分散成分而獲得透過水;第2附著物檢測部，設(shè)置于從所述被處理水供給管路分支的分支管路，且具有第2檢測用分離膜，所述第2檢測用分離膜將所述分支的被處理水的一部分作為檢測液并將該檢測液分離為檢測用透過水和檢測用非透過水;附著條件變更裝置，變更附著于所述第2檢測用分離膜的附著物的附著條件;及第2檢測用分離液流量測量裝置，測量在所述第2檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水的任一者或兩者的流量。
第3發(fā)明為第1或2發(fā)明所述的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，其特征在于，所述附著條件變更裝置為改變分支的所述檢測液的供給壓力的壓力調(diào)整裝置。
第4發(fā)明為第1或2發(fā)明所述的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，其特征在于，所述附著條件變更裝置為改變分支的所述檢測液的供給流量的流量調(diào)整裝置。
第5發(fā)明的水處理裝置的其特征在于具備：分離膜裝置，具有從被處理水濃縮溶解成分和分散成分而獲得透過水的分離膜;非透過水管路，從所述分離膜裝置排出濃縮溶解成分和分散成分而成的非透過水;第1附著物檢測部，設(shè)置于從所述非透過水管路分支的非透過水分支管路，且具有第1檢測用分離膜，所述第1檢測用分離膜將所述分支的非透過水的一部分作為檢測液并將該檢測液分離為檢測用透過水和檢測用非透過水;附著條件變更裝置，變更附著于所述第1檢測用分離膜的附著物的附著條件;第1檢測用分離液流量測量裝置，測量在所述第1檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水的任一者或兩者的流量;及控制裝置，根據(jù)所述第1檢測用分離液流量測量裝置的測量結(jié)果，進行以下控制中的任一者或兩者，即執(zhí)行所述分離膜裝置的所述分離膜的清洗處理或變更為不使附著物附著于所述分離膜裝置的所述分離膜的運行條件。
第6發(fā)明的水處理裝置的特征在于具備：分離膜裝置，具有從被處理水濃縮溶解成分和分散成分而獲得透過水的分離膜;被處理水供給管路，向所述分離膜裝置供給所述被處理水;第2附著物檢測部，設(shè)置于從所述被處理水供給管路分支的被處理水分支管路，且具有第2檢測用分離膜，所述第2檢測用分離膜將所述分支的被處理水的一部分作為檢測液并將該檢測液分離為檢測用透過水和檢測用非透過水;附著條件變更裝置，變更附著于所述第2檢測用分離膜的附著物的附著條件;第2檢測用分離液流量測量裝置，測量在所述第2檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水的任一者或兩者的流量;及控制裝置，根據(jù)所述第2檢測用分離液流量測量裝置的測量結(jié)果，進行以下控制中的任一者或兩者，即執(zhí)行所述分離膜裝置的所述分離膜的清洗處理或變更為不使附著物附著于所述分離膜裝置的所述分離膜的運行條件。
第7發(fā)明的水處理裝置的特征在于具備：分離膜裝置，具有從被處理水濃縮溶解成分和分散成分而獲得透過水的分離膜;非透過水管路，從所述分離膜裝置排出濃縮溶解成分和分散成分而成的非透過水;第1附著物檢測部，設(shè)置于從所述非透過水管路分支的非透過水分支管路，且具有第1檢測用分離膜，所述第1檢測用分離膜將所述分支的非透過水的一部分作為檢測液并將該檢測液分離為檢測用透過水和檢測用非透過水;附著條件變更裝置，變更附著于所述第1檢測用分離膜的附著物的附著條件;第1檢測用分離液流量測量裝置，測量在所述第1檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水的任一者或兩者的流量;被處理水供給管路，向所述分離膜裝置供給所述被處理水;第2附著物檢測部，設(shè)置于從所述被處理水供給管路分支的被處理水分支管路，且具有第2檢測用分離膜，所述第2檢測用分離膜將所述分支的被處理水的一部分作為檢測液并將該檢測液分離為檢測用透過水和檢測用非透過水;附著條件變更裝置，變更附著于所述第2檢測用分離膜的附著物的附著條件;第2檢測用分離液流量測量裝置，測量在所述第2檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水的任一者或兩者的流量;及控制裝置，根據(jù)所述第1檢測用分離液流量測量裝置或第2檢測用分離液流量測量裝置的測量結(jié)果，進行以下控制中的任一者或兩者，即執(zhí)行所述分離膜裝置的所述分離膜的清洗處理或變更為不使附著物附著于所述分離膜裝置的所述分離膜的運行條件。
第8發(fā)明為第5至7中任一發(fā)明所述的水處理裝置，其特征在于，具備使來自所述分離膜裝置的所述非透過水的水分蒸發(fā)的蒸發(fā)器。
第9發(fā)明的水處理裝置的運行方法的其特征在于，所述水處理裝置的運行方法利用第1發(fā)明的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置;通過第1檢測用分離液流量測量裝置測量在所述第1檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水時，在變更附著于所述第1檢測用分離膜的附著物的附著條件且在所述檢測用透過水或檢測用非透過水的流量相較于規(guī)定量發(fā)生變化的情況下，進行以下控制中的任一者或兩者，即執(zhí)行所述分離膜裝置的所述分離膜的清洗處理或變更為不使附著物附著于所述分離膜裝置的所述分離膜的運行條件。
第10發(fā)明為第9發(fā)明所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，所述附著物的附著條件的變更是變更分支的所述非透過水的供給壓力的情況，供給壓力為規(guī)定閾值以下。
第11發(fā)明為第9發(fā)明所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，所述附著物的附著條件的變更是變更分支的所述非透過水的供給流量的情況，供給流量為規(guī)定閾值以上。
第12發(fā)明的水處理裝置的運行方法的特征在于，所述水處理裝置的運行方法利用第2發(fā)明的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置;通過第2檢測用分離液流量測量裝置測量在所述第2檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水時，在變更附著于所述第2檢測用分離膜的附著物的附著條件且在所述檢測用透過水或檢測用非透過水的流量相較于規(guī)定量發(fā)生變化的情況下，進行以下控制中的任一者或兩者，即執(zhí)行所述分離膜裝置的所述分離膜的清洗處理或變更為不使附著物附著于所述分離膜裝置的所述分離膜的運行條件。
第13發(fā)明為第12發(fā)明所述的所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，所述附著物的附著條件的變更是變更分支的所述被處理水的供給壓力的情況，供給壓力為規(guī)定閾值以下。
第14發(fā)明為第12發(fā)明所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，所述附著物的附著條件的變更是變更分支的所述被處理水的供給流量的情況，供給流量為規(guī)定閾值以上。
第15發(fā)明的水處理裝置的運行方法其特征在于，所述水處理裝置的運行方法利用第1發(fā)明的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置;通過第1檢測用分離液流量測量裝置測量在所述第1檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水時，在變更附著于所述第1檢測用分離膜的附著物的附著條件且在所述檢測用透過水或檢測用非透過水的流量維持規(guī)定量的情況下，變更所述分離膜裝置的運行條件。
第16發(fā)明為第15發(fā)明所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，所述附著物的附著條件是變更分支的所述非透過水的供給壓力的情況，供給壓力為規(guī)定閾值以上。
第17發(fā)明為第15發(fā)明所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，所述附著物的附著條件是變更分支的所述非透過水的供給流量的情況，所述供給流量為規(guī)定閾值以下。
第18發(fā)明的水處理裝置的運行方法，其特征在于，所述水處理裝置的運行方法利用第2發(fā)明的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置;通過第2檢測用分離液流量測量裝置測量在所述第2檢測用分離膜中分離的檢測用透過水或檢測用非透過水時，在變更附著于所述第2檢測用分離膜的附著物的附著條件且在所述檢測用透過水或檢測用非透過水的流量維持規(guī)定量的情況下，變更所述分離膜裝置的運行條件。
第19發(fā)明為第18發(fā)明所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，所述附著物的附著條件是變更分支的所述被處理水的供給壓力的情況，供給壓力為規(guī)定閾值以上。
第20發(fā)明為第18發(fā)明所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，所述附著物的附著條件是變更分支的所述被處理水的供給流量的情況，所述供給流量為規(guī)定閾值以下。
第21發(fā)明的水處理裝置的清洗方法的特征在于，所述水處理裝置的清洗方法利用第1發(fā)明的水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置;通過所述第1檢測用分離液流量測量裝置測量在所述第1檢測用分離膜中分離的所述檢測用透過水或所述檢測用非透過水時，選定所述檢測用透過水或所述檢測用非透過水的流量相較于規(guī)定量發(fā)生變化時的與附著于所述第1附著物檢測部的所述第1檢測用分離膜的附著物對應(yīng)的清洗液，并向所述分離膜裝置供給選定的清洗液。
第22發(fā)明的水處理裝置的清洗方法的特征在于，所述水處理裝置的清洗方法利用第2水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置;通過所述第2檢測用分離液流量測量裝置測量在所述第2檢測用分離膜中分離的所述檢測用透過水或所述檢測用非透過水時，選定所述檢測用透過水或所述檢測用非透過水的流量相較于規(guī)定量發(fā)生變化時的與附著于所述第2附著物檢測部的所述第2檢測用分離膜的附著物對應(yīng)的清洗液，并向所述分離膜裝置供給選定的清洗液。
第23發(fā)明為第9或第12發(fā)明所述的水處理裝置的運行方法，其特征在于，使來自所述分離膜裝置的所述非透過水的水分蒸發(fā)。
發(fā)明效果
根據(jù)本發(fā)明，通過使用水處理裝置的附著物監(jiān)控裝置，在使用基于分離膜的分離膜裝置來處理被處理水時，能夠預先預測附著物附著于分離膜。
