申請日2015.07.10
公開(公告)日2015.09.30
IPC分類號(hào)C02F9/06
摘要
本發(fā)明公開了一種化工污水處理方法,將化工污水通入設(shè)置有粗格柵和細(xì)格柵的格柵池,將化工污水中的固體顆粒物分離出來,將經(jīng)過分離的化工污水通入物理吸附反應(yīng)釜;在物理吸附反應(yīng)釜中設(shè)置活性炭過濾層,使污水通過活性炭過濾層,由活性炭過濾層吸附化工污水中的細(xì)小顆粒物;在污水中加入石灰凝絮劑,使石灰凝絮劑與化工污水充分混合,并進(jìn)行過濾操作,將污水中的凝絮過濾并收集,將經(jīng)過過濾的化工污水通入電解池,對(duì)污水進(jìn)行電解,通入硫酸鈉,使化工污水中的金屬離子發(fā)生還原作用;將污水中加入石灰凝絮劑,使其中的金屬離子氧化沉淀。能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)化工污水的深度處理,結(jié)構(gòu)簡單,容易實(shí)施,并且能夠最大化簡化設(shè)備,實(shí)現(xiàn)污水中的重金屬的處理。
權(quán)利要求書
1.一種化工污水處理方法,其特征在于:包括以下步驟:
S1:去除固體顆粒雜質(zhì):將化工污水通入設(shè)置有粗格柵和細(xì)格柵的格柵池,將化工污水中的固體顆粒物分離出來,所述的粗格柵和細(xì)格柵均與地面成30—45°角,將經(jīng)過分離的化工污水通入物理吸附反應(yīng)釜;
S2:去除細(xì)小顆粒物:在物理吸附反應(yīng)釜中設(shè)置活性炭過濾層,使經(jīng)步驟S1處理的化工污水通過活性炭過濾層,由活性炭過濾層吸附化工污水中的細(xì)小顆粒物;
S3:在步驟S2中輸出的化工污水中加入石灰凝絮劑,對(duì)其進(jìn)行攪拌,使石灰凝絮劑與化工污水充分混合,并進(jìn)行過濾操作,將化工污水中的凝絮過濾并收集,將經(jīng)過過濾的化工污水通入電解池,對(duì)污水進(jìn)行電解,同時(shí)通入硫酸鈉,使化工污水中的金屬離子發(fā)生還原作用;
S4:將步驟S3產(chǎn)生的污水中加入石灰凝絮劑,使其中的金屬離子氧化沉淀,并對(duì)沉淀物進(jìn)行分離,將經(jīng)分離的污水排出并集中收集。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化工污水處理方法,其特征在于:所述的物理吸附反應(yīng)釜中設(shè)置有加熱裝置 ,在完成化工污水處理之后,在物理吸附反應(yīng)釜中加入清水,啟動(dòng)加熱裝置,對(duì)物理吸附反應(yīng)釜中的活性炭過濾層進(jìn)行加熱處理。
3.一種化工污水處理裝置,其特征在于:包括格柵池(101),在所述格柵池(101)內(nèi)依次設(shè)置有粗格柵和細(xì)格柵,所述格柵池(101)輸出口與物理吸附反應(yīng)釜(102)輸入口相連接,所述物理吸附反應(yīng)釜(102)輸出口與電解池(103)相連接,所述電解池(103)的輸出口設(shè)置有蓄水池;
所述的格柵池(101)內(nèi)設(shè)置有孔徑為0.25-1mm的細(xì)格柵和孔徑為1-1.5mm的粗格柵,所述的粗格柵位于靠近所述格柵池(101)輸入口一端,所述的粗格柵和細(xì)格柵均能夠相對(duì)所述格柵池(101)側(cè)壁滑動(dòng);
在所述物理吸附反應(yīng)釜(102)內(nèi)設(shè)置有活性炭過濾層,所述的活性炭過濾層為沿物理吸附反應(yīng)釜(102)軸向均勻間隔設(shè)置的3個(gè);
在所述電解池(103)內(nèi)設(shè)置有電極(104),所述的電解池(103)的輸出端與蓄水池相連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種化工污水處理裝置,其特征在于:在所述物理吸附反應(yīng)釜(102)與電解池(103)之間設(shè)置有催化劑加料口(105),所述的物理吸附反應(yīng)釜(102)輸出端設(shè)置有細(xì)格柵。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的一種化工污水處理裝置,其特征在于:所述的電解池(103)內(nèi)設(shè)只有離子交換膜,所述的電極陽極位于所述電解池(103)離子交換膜陰離子一側(cè),所述的電極陰極位于所述電解池(103)離子交換膜陽離子一側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的一種化工污水處理裝置,其特征在于:在所述格柵池(101)側(cè)壁上設(shè)置有滑槽,在所述粗格柵和細(xì)格柵側(cè)壁上設(shè)置有能夠嵌入滑槽的滑塊,所述的滑槽與地面呈30—45°角設(shè)置。
說明書
一種化工污水處理方法及處理裝置
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種化工污水處理方法及處理裝置。
背景技術(shù)
化工污水中常常含有大量的金屬粒子,將其直接進(jìn)行排放容易造成重金屬污染。現(xiàn)有的化工污水通常通過排放到污水處理廠進(jìn)行深度處理,污水輸送過程中,需要采用大量管道設(shè)備,并且,一旦發(fā)生泄漏,會(huì)造成很難恢復(fù)的污染。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種化工污水處理方法及處理裝置,能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)化工污水的深度處理,結(jié)構(gòu)簡單,容易實(shí)施,并且能夠最大化簡化設(shè)備,實(shí)現(xiàn)污水中的重金屬的處理。
本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
一種化工污水處理方法,包括以下步驟:
S1:去除固體顆粒雜質(zhì):將化工污水通入設(shè)置有粗格柵和細(xì)格柵的格柵池,將化工污水中的固體顆粒物分離出來,所述的粗格柵和細(xì)格柵均與地面成30—45°角,將經(jīng)過分離的化工污水通入物理吸附反應(yīng)釜;
S2:去除細(xì)小顆粒物:在物理吸附反應(yīng)釜中設(shè)置活性炭過濾層,使經(jīng)步驟S1處理的化工污水通過活性炭過濾層,由活性炭過濾層吸附化工污水中的細(xì)小顆粒物;
S3:在步驟S2中輸出的化工污水中加入石灰凝絮劑,對(duì)其進(jìn)行攪拌,使石灰凝絮劑與化工污水充分混合,并進(jìn)行過濾操作,將化工污水中的凝絮過濾并收集,將經(jīng)過過濾的化工污水通入電解池,對(duì)污水進(jìn)行電解,同時(shí)通入硫酸鈉,使化工污水中的金屬離子發(fā)生還原作用;
S4:將步驟S3產(chǎn)生的污水中加入石灰凝絮劑,使其中的金屬離子氧化沉淀,并對(duì)沉淀物進(jìn)行分離,將經(jīng)分離的污水排出并集中收集。
本發(fā)明通過采用物理處理和化學(xué)處理的方式,實(shí)現(xiàn)對(duì)化工污水中固體雜質(zhì)和化學(xué)雜質(zhì)的處理,通過采用石灰凝絮的方式和電解除金屬離子的方式,實(shí)現(xiàn)對(duì)金屬離子的兩次處理,提高對(duì)金屬離子的去除效率,使得經(jīng)分離的污水處理效率更高。
進(jìn)一步地,為更好地實(shí)現(xiàn)本發(fā)明,所述的物理吸附反應(yīng)釜中設(shè)置有加熱裝置 ,在完成化工污水處理之后,在物理吸附反應(yīng)釜中加入清水,啟動(dòng)加熱裝置,對(duì)物理吸附反應(yīng)釜中的活性炭過濾層進(jìn)行加熱處理。
一種化工污水處理裝置,包括格柵,在所述格柵池內(nèi)依次設(shè)置有粗格柵和細(xì)格柵,所述格柵池輸出口與物理吸附反應(yīng)釜輸入口相連接,所述物理吸附反應(yīng)釜輸出口與電解池相連接,所述電解池的輸出口設(shè)置有蓄水池;
所述的格柵池內(nèi)設(shè)置有孔徑為0.25-1mm的細(xì)格柵和孔徑為1-1.5mm的粗格柵,所述的粗格柵位于靠近所述格柵池輸入口一端,所述的粗格柵和細(xì)格柵均能夠相對(duì)所述格柵池側(cè)壁滑動(dòng);
在所述物理吸附反應(yīng)釜內(nèi)設(shè)置有活性炭過濾層,所述的活性炭過濾層為沿物理吸附反應(yīng)釜軸向均勻間隔設(shè)置的3個(gè);
在所述電解池內(nèi)設(shè)置有電極,所述的電解池的輸出端與蓄水池相連接。
本發(fā)明通過設(shè)置格柵池和物理吸附反應(yīng)釜對(duì)污水進(jìn)行物理除雜質(zhì)操作,方便后續(xù)除金屬離子操作,能夠提高操作效率,同時(shí),避免雜質(zhì)影響電解操作;通過設(shè)置電解池對(duì)金屬離子進(jìn)行電解氧化還原操作,能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)污水的處理,同時(shí),可以方便將設(shè)備簡化,使得設(shè)備能夠用于小型化工設(shè)備的使用。
進(jìn)一步地,為更好地實(shí)現(xiàn)本發(fā)明,在所述物理吸附反應(yīng)釜與電解池之間設(shè)置有催化劑加料口,所述的物理吸附反應(yīng)釜輸出端設(shè)置有細(xì)格柵。
進(jìn)一步地,為更好地實(shí)現(xiàn)本發(fā)明,所述的電解池內(nèi)設(shè)只有離子交換膜,所述的電極陽極位于所述電解池離子交換膜陰離子一側(cè),所述的電極陰極位于所述電解池離子交換膜陽離子一側(cè)。
進(jìn)一步地,為更好地實(shí)現(xiàn)本發(fā)明,在所述格柵池側(cè)壁上設(shè)置有滑槽,在所述粗格柵和細(xì)格柵側(cè)壁上設(shè)置有能夠嵌入滑槽的滑塊,所述的滑槽與地面呈30—45°角設(shè)置。