公布日：2023.11.14
申請(qǐng)日：2023.09.26
分類號(hào)：C02F1/56(2023.01)I;C02F1/36(2023.01)I;C02F1/463(2023.01)I
摘要
本發(fā)明涉及一種超聲絮凝立體槽處理清洗廢水的方法。把混凝劑溶液、電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液倒入三層儲(chǔ)液槽的每一個(gè)槽。待清洗的廢水倒入上層儲(chǔ)液槽，開動(dòng)超聲波發(fā)生器，在超聲波和磁性顆粒的作用下進(jìn)行廢液處理。第一環(huán)節(jié)處理后，廢液進(jìn)入與上層與中層儲(chǔ)液槽中間的管道進(jìn)入中層儲(chǔ)液槽；在中層儲(chǔ)液槽中，同樣在超聲波和磁性顆粒的作用下進(jìn)行廢液處理，同時(shí)，澄清槽內(nèi)的混凝污泥經(jīng)磁性顆�；厥昭b置，四氧化三鐵磁性顆粒回收至廢水處理槽重新利用，污泥由磁性顆�；厥昭b置的排污口排出后收集處理。從中層儲(chǔ)液槽的廢水管道進(jìn)入下層儲(chǔ)液槽，超聲廢水處理并進(jìn)行磁性顆�；厥�。
權(quán)利要求書
1.一種超聲絮凝立體槽處理清洗廢水的方法，其特征在于，采用分級(jí)處理，儲(chǔ)液槽采用立體式的，分為上中下三層，每個(gè)儲(chǔ)液槽底部都安裝超聲波發(fā)生器；上層儲(chǔ)液槽與中層儲(chǔ)液槽通過(guò)管道連接；中層儲(chǔ)液槽既通過(guò)管道與上層連接，又既通過(guò)管道與下層連接；下層儲(chǔ)液槽通過(guò)管道與中層儲(chǔ)液槽連接；中層儲(chǔ)液槽與下層儲(chǔ)液槽分別連接一個(gè)磁性顆粒回收裝置，澄清廢水得到的混凝污泥經(jīng)磁性顆�；厥昭b置處理，四氧化三鐵磁性顆�；厥罩羶�(chǔ)液槽重新利用，污泥由磁性顆�；厥昭b置的排污口排出后收集處理，具體步驟如下：(1)配制混凝劑溶液：將陰離子聚丙烯酰胺與水配置成混凝劑溶液；(2)配制電解質(zhì)型絮凝劑溶液：以硫酸鋁為電解質(zhì)型絮凝劑，將硫酸鋁與水配置成硫酸鋁溶液液；(3)配制磁懸浮液：將四氧化三鐵磁性顆粒與水配置成磁懸浮液；(4)將廢水置入上層儲(chǔ)液槽內(nèi)，依次向待處理的廢水中緩慢加入電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液、混凝劑溶液，廢水中出現(xiàn)絮凝的時(shí)候開啟超聲波發(fā)生器，對(duì)出現(xiàn)絮凝的廢水進(jìn)行超聲攪拌，直至絮凝完全沉降；(5)上層儲(chǔ)液槽中的廢水流入中層儲(chǔ)液槽中，依次向中層儲(chǔ)液槽中緩慢加入電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液、混凝劑溶液，廢水中出現(xiàn)絮凝的時(shí)候開啟超聲波發(fā)生器；對(duì)出現(xiàn)絮凝的廢水進(jìn)行超聲攪拌，直至絮凝完全沉降；將沉降后的廢水排入磁性顆�；厥昭b置中，澄清后的廢水經(jīng)管道排入下層的儲(chǔ)液槽中；磁性顆粒回收裝置內(nèi)的混凝污泥經(jīng)磁性顆�；厥昭b置處理，四氧化三鐵磁性顆�；厥罩翉U水儲(chǔ)液槽重新利用，污泥由磁性顆�；厥昭b置的排污口排出后收集處理；(6)中層儲(chǔ)液槽中的廢水流入下層儲(chǔ)液槽中，依次向下層儲(chǔ)液槽中緩慢加入電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液、混凝劑溶液，廢水中出現(xiàn)絮凝的時(shí)候開啟超聲波發(fā)生器，對(duì)出現(xiàn)絮凝的廢水進(jìn)行超聲攪拌，直至絮凝完全沉降；(7)將三級(jí)處理沉降后的廢水進(jìn)行澄清，經(jīng)磁性顆粒回收裝置，四氧化三鐵磁性顆�；厥罩翉U水處理槽重新利用，污泥由磁性顆�；厥昭b置的排污口排出后收集處理。
2.如權(quán)利要求1所述的一種超聲絮凝立體槽處理清洗廢水的方法，其特征在于，步驟(1)中，陰離子聚丙烯酰胺的分子量為30W，陰離子聚丙烯酰胺與水的質(zhì)量比為1：900～1：1000。
3.如權(quán)利要求1所述的一種超聲絮凝立體槽處理清洗廢水的方法，其特征在于，步驟(2)中，硫酸鋁與水的質(zhì)量比為1：15～1:20。
4.如權(quán)利要求1所述的一種超聲絮凝立體槽處理清洗廢水的方法，其特征在于，步驟(3)中，四氧化三鐵磁性顆粒的粒徑為50μm-100μm，四氧化三鐵磁性顆粒與水的質(zhì)量比為1：90～1:100。
5.如權(quán)利要求1所述的一種超聲絮凝立體槽處理清洗廢水的方法，其特征在于，步驟(4)中，廢水、電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液、混凝劑溶液的體積比為2000：20-30：20-30：30-40；超聲波發(fā)生器頻率為30-60KHz、功率為500-700W，超聲攪拌時(shí)間為40-60min。
6.如權(quán)利要求1所述的一種超聲絮凝立體槽處理清洗廢水的方法，其特征在于，步驟(5)中，廢水、電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液、混凝劑溶液的體積比為2000：10-20：10-20：10-20；超聲波發(fā)生器頻率為30-60KHz、功率為500-700W，超聲攪拌時(shí)間為40-60min。
7.如權(quán)利要求1所述的一種超聲絮凝立體槽處理清洗廢水的方法，其特征在于，步驟(6)中，廢水、電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液、混凝劑溶液的體積比為2000：5-10L：5-10L：5-10L；超聲波發(fā)生器頻率為30-60KHz、功率為500-700W，超聲攪拌時(shí)間為40-60min。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明提供一種超聲絮凝立體槽處理清洗廢水的方法，該種方法通過(guò)超聲和磁場(chǎng)絮凝雙管齊下，高效快捷地處理廢水。
為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)：一種超聲絮凝立體槽處理清洗廢水的方法，包括如下加工步驟：
(1)配制混凝劑溶液：將陰離子聚丙烯酰胺與水按照質(zhì)量比1：900～1：1000，配置成混凝劑溶液；
(2)配制電解質(zhì)型絮凝劑溶液。以硫酸鋁為電解質(zhì)型絮凝劑，硫酸鋁與水按照質(zhì)量比1：15～1:20的比例混合，配置成硫酸鋁溶液液；
(3)配制磁懸浮液：將四氧化三鐵磁性顆粒(50um-100um粒徑)與水按照質(zhì)量比1：90～1:100的比例混合，配置成磁懸浮液；
(4)將廢水置入上層儲(chǔ)液槽內(nèi)，依次向待處理的廢水中緩慢加入電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液、混凝劑溶液，廢水中出現(xiàn)絮凝的時(shí)候開啟超聲波發(fā)生器；超聲波發(fā)生器頻率為30-60KHz、功率為500-700W，對(duì)出現(xiàn)絮凝的廢水進(jìn)行超聲攪拌40-60min，直至絮凝完全沉降；
步驟(4)中，廢水、電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液、混凝劑溶液的體積比為2000：20-30：20-30：30-40。
(5)上層儲(chǔ)液槽中的廢水流入中層儲(chǔ)液槽中，依次向中層儲(chǔ)液槽中緩慢加入電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液、混凝劑溶液，廢水中出現(xiàn)絮凝的時(shí)候開啟超聲波發(fā)生器；超聲波發(fā)生器頻率為30-60KHz、功率為500-700W，對(duì)出現(xiàn)絮凝的廢水進(jìn)行超聲攪拌40-60min，直至絮凝完全沉降；將沉降后的廢水排入磁性顆粒回收裝置中，澄清后的廢水經(jīng)管道排入下層的儲(chǔ)液槽中；磁性顆�；厥昭b置內(nèi)的混凝污泥經(jīng)磁性顆�；厥昭b置處理，四氧化三鐵磁性顆�；厥罩翉U水儲(chǔ)液槽重新利用，污泥由磁性顆�；厥昭b置的排污口排出后收集處理；
步驟(5)中，廢水、電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液、混凝劑溶液的體積比為2000：10-20：10-20：10-20。
(6)中層儲(chǔ)液槽中的廢水流入下層儲(chǔ)液槽中，依次向下層儲(chǔ)液槽中緩慢加入電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液、混凝劑溶液，廢水中出現(xiàn)絮凝的時(shí)候開啟超聲波發(fā)生器；超聲波發(fā)生器頻率為30-60KHz、功率為500-700W的超聲波發(fā)生器，對(duì)出現(xiàn)絮凝的廢水進(jìn)行超聲攪拌40-60min，直至絮凝完全沉降；
步驟(6)中，廢水、電解質(zhì)型絮凝劑溶液、磁懸浮液、混凝劑溶液的體積比為2000：5-10L：5-10L：5-10L。
(7)將三級(jí)處理沉降后的廢水進(jìn)行澄清，經(jīng)磁性顆�；厥昭b置，四氧化三鐵磁性顆�；厥罩翉U水儲(chǔ)液槽重新利用，污泥由磁性顆�；厥昭b置的排污口排出后收集處理。
步驟(1)中，陰離子聚丙烯酰胺的分子量為30W。
創(chuàng)新點(diǎn)
(1)把磁性顆粒引入到廢水處理中。
(2)不同于目前的并列式的多個(gè)槽的廢水處理，三步處理的三個(gè)槽采用立式的三層結(jié)構(gòu)，有效利用空間。
發(fā)明有益效果
針對(duì)目前污水處理廠沒(méi)有針對(duì)性到地處理工業(yè)廢水，各種處理方法不適合半導(dǎo)體公司、電子廠、光電器件公司在生產(chǎn)器件產(chǎn)生的廢水，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)：本發(fā)明提供的一種超聲絮凝立體槽處理清洗廢水的方法，該種方法巧妙地把磁性絮凝引用到超聲處理廢水中，適合于半導(dǎo)體公司、電子廠、光電器件公司在生產(chǎn)器件產(chǎn)生的廢水處理。提高了廢水處理的效率和效果。
（發(fā)明人：孟艷芳;程廣貴）
