四川中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所混合離子束濺射薄膜沉積系統(tǒng)-公開(kāi)招標(biāo)公告
招標(biāo)公告 混合離子束濺射薄膜沉積系統(tǒng)項(xiàng)目已具備招標(biāo)條件。資金來(lái)源為專項(xiàng)資金,中科信工程咨詢(北京)有限責(zé)任公司(招標(biāo)代理機(jī)構(gòu))受中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所(招標(biāo)人)的委托,對(duì)該項(xiàng)目進(jìn)行國(guó)際公開(kāi)招標(biāo)采購(gòu)。
1. 招標(biāo)范圍 1.1貨物名稱:混合離子束濺射薄膜沉積系統(tǒng)。
1.2招標(biāo)編號(hào):0779-23400903A021。
1.3主要功能要求:混合離子束濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由高真空系統(tǒng)、離子束濺射系統(tǒng)、基片裝載和運(yùn)動(dòng)系統(tǒng),、基片加熱系統(tǒng)、光學(xué)膜厚控制系統(tǒng)等組成,具備人工操作和全自動(dòng)薄膜沉積控制功能。
1.4主要技術(shù)要求:
① 真空室極限真空≤2x10-7mbar,真空室漏率≤5.0x10-5 mbar.l/s;
② 雙離子源均為射頻源,其中主離子源離子束直徑≥15cm,最大離子能量>1keV,最大離子束流≥600mA,輔助離子源離子束直徑≥8cm;
③ 鍍膜光學(xué)元件要求:最大直徑≥ Φ500mm,重量≥50kg;
④ 膜厚非均勻性要求:Φ500mm口徑非均勻性≤±0.5%;
1.5數(shù)量:2套。